Propel 300mm GaN 金屬化學氣相沉積MOCVD

Propel™ 300mm全自動單晶圓簇系統是經過行業驗證的GaN MOCVD工具，能夠在300mm襯底上生產5G RF、Photonic和先進的CMOS器件。

Propel 300mm 系統采用單晶圓反應器平臺，能夠在 300mm 晶圓上生產的高質量外延膜，具有出色的均勻性、可重復性和產量。Propel 300mm 系統可配置多達 3 個模塊化集群室，并提供自動化的膜包到膜包處理，以實現最大的靈活性和生產率。

單晶圓反應器基于 Veeco  TurboDisc® 設計，包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技術，可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從 Veeco 單晶圓反應器 Propel 和 Propel HVM 系統轉移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系統，以便快速開發到生產。