ED-3000 MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備
| 參考價 | ￥ 13000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 高斯摩(成都)國際貿(mào)易有限公司
- 品牌 MIKASA/米卡薩
- 型號 ED-3000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/5/27 16:55:32
- 訪問次數(shù) 131
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MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
顯影和蝕刻設備是半導體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設備通過化學溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設備則通過物理或化學方法去除未被光刻膠保護的基底材料，實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
主要設備類型：
顯影設備：
噴淋式顯影機
浸漬式顯影機
超聲波輔助顯影機
蝕刻設備：
濕法蝕刻設備（化學溶液）
干法蝕刻設備（等離子體）
反應離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設備特點
高精度加工能力：
可實現(xiàn)納米級圖形轉(zhuǎn)移（<10nm）
各向異性蝕刻控制（側(cè)壁角度可調(diào)）
高深寬比加工（最高可達50:1）
先進工藝控制：
精確的溫度控制系統(tǒng)（±0.1℃）
實時終點檢測技術
多參數(shù)閉環(huán)控制
材料兼容性廣：
硅、化合物半導體、金屬等多種材料
有機/無機介質(zhì)材料
新型二維材料
智能化系統(tǒng)：
自動配方管理
故障自診斷
遠程監(jiān)控
環(huán)保設計：
廢氣處理系統(tǒng)
廢液回收裝置
低耗材設計
顯影和蝕刻設備作為微納制造的關鍵裝備，其技術水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導體技術節(jié)點的不斷推進和新興應用的涌現(xiàn)，新一代設備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來，這些設備將繼續(xù)在推動信息技術進步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 聚氯乙烯 | 轉(zhuǎn)速 | 0~3,000轉(zhuǎn)/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12” （220×220mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學品排放 | 噴霧排放 （擺動噴嘴型） | 權力 | AC200V 三相 15A |
| 尺寸 （mm） 當門打開時 | 720W×500H×520D 910H | ||
步數(shù) | 48 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
| 工藝（標準） | 蝕刻液：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 沖洗：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 反 沖洗：1 個 | 關鍵選項 | 化學溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺 |
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