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2023
05-25

EVG納米壓印技術用于制作3D光學納米結(jié)構
首CHUANG的解決方案將SwissLithoNanoFrazo系統(tǒng)的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術的高產(chǎn)量和成本效益相結(jié)合面向MEMS、納米技術和半導體市場的晶圓鍵合...
2023
05-25

NIL納米壓印技術在生物醫(yī)療領域的應用
在過去的幾十年中，生物技術器件的小型化極大地改善了臨床診斷，藥物研究和分析化學。現(xiàn)代生物技術器件——如用于診斷、細胞分析和藥物發(fā)現(xiàn)的生物醫(yī)學MEMS(bioMEMS)——通常是基于芯片的，依賴于微米級...
2023
05-08

薄膜在線測厚儀的有哪些測量原理？
薄膜在線測厚儀的測量原理有4種：射線技術，X射線技術，近紅外技術和光學透過率技術2.1射線技術射線技術是最先應用于在線測厚技術上的射線技術，在上世紀60年代就已經(jīng)廣泛用于超薄薄膜的在線厚度測量了。2....
2023
04-13

晶圓鍵合技術在LED應用中的研究進展（二）
1.2金屬鍵合對于高亮度垂直LED（high-brightnessverticalLED，HB-VLED）來說，鍵合界面必須具有高熱導和高電導的性能，幸運的是大部分金屬材料導熱性能好的同時導電性能也較...
2023
04-13

晶圓鍵合技術在LED應用中的研究進展（一）
0引言發(fā)光二極管（light-emittingdiode，LED）照明是利用半導體的電致發(fā)光發(fā)展而來的固態(tài)照明技術。自1907年第一只發(fā)光二極管問世，到20世紀90年代，人們對LED的研究進展緩慢，期...
2023
04-13

用于創(chuàng)新PIC封裝的晶圓級納米壓印技術
01引言數(shù)據(jù)中心、電信網(wǎng)絡、傳感器和用于人工智能高級計算中的新興應用，對于低功耗和低延遲的高速數(shù)據(jù)傳輸?shù)男枨蟪尸F(xiàn)出指數(shù)級增長。我們比以往任何時候都更加依賴這些應用來確保這個世界更安全、更高效。在所有這...
2023
04-12

EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對準光刻機
相較上一代平臺，全新自動掩模對準系統(tǒng)（IQAlignerNT）產(chǎn)出率和對準精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應用微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備LINGXIA...
2023
04-12

光刻創(chuàng)新技術：EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術
1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜诟呒壏庋b和異構集成的數(shù)字光刻技術。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉(zhuǎn)向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此，對...
2023
04-12

MicroSense位移傳感器簡介
一、優(yōu)勢簡介：MicroSense的高精度電容式位移傳在感器，除具有一般非接觸式儀器的共性外，還具有信噪比高、靈敏度高、零漂小、頻響寬、非線性小、精度穩(wěn)定性好、抗電磁干擾能力強、使用方便等優(yōu)點，在國內(nèi)...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（結(jié)果與討論）
３結(jié)果與討論３.１顯影時間影響經(jīng)過無掩模光刻機曝光后，目標圖案已轉(zhuǎn)移至ＩＴＯ玻璃上。將ＩＴＯ玻璃放置于加熱板上進行加熱，烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分，使光刻膠與ＩＴＯ玻璃結(jié)合更加緊密，此時，經(jīng)過曝光的...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（引言+實驗）
１引言ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ）又稱氧化銦錫，是一種銦錫金屬氧化物，因其具有光學透明性［１］、高導電性［２］、易加工性［３］及柔性潛力［４］等優(yōu)點，目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領域...
2023
04-10

超聲波清洗機能清洗硅片嗎？
可以的。隨著半導體材料技術的發(fā)展，對硅片的規(guī)格和質(zhì)量也提出更高的要求，適合微細加工的大直徑硅片在市場的需求比例將日益加大。半導體,芯片,集成電路,設計,版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進的切、...
2023
03-14

ThetaMetrisis膜厚儀用于電池隔膜厚度測量
介紹：鋰電池由正極、負極和電解液組成。隔膜是形成微孔層的高分子膜，放置在電池的正負極之間，使正負極保持分開以防短路，同時確保離子電荷載體的傳輸。隔膜的結(jié)構和特性會顯著影響電池的性能，例如能量、功率密度...
2023
03-08

可以讓產(chǎn)品變性的機器，等離子清洗機？
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是：（1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了...
2023
02-20

EVG突破用于半導體高/級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙
面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的LINGXIAN供應商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對大批量先進封裝應用的新的，先進的自動掩模對準系統(tǒng)。新型I...
2023
02-20

EVG使用300mm晶圓光刻機制造MEMS透鏡
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWalt...
2023
02-20

【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準和測試精度
在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...
2023
02-20

制造芯片的難題之光刻技術和掩模版制作
一、簡介第四次工業(yè)革命以數(shù)年前尚不存在的技術席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經(jīng)在公共街道上進行測試；無人機正在調(diào)查地形，拍攝視頻，派發(fā)包裹；由專業(yè)人士和業(yè)余愛好者創(chuàng)建的...
2023
06-08

光學光刻技術（Optical lithography）
1.簡介光學光刻（Opticallithography），也稱為光學平版印刷術或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進行構圖的方法。2.設備（接近式光刻機）2.1...
2023
02-16

光刻技術有哪些分類
光刻技術是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法來實現(xiàn)圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。設定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機...

岱美儀器技術服務（上海）有限公司

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