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實驗室使用超純水的標準有哪些
閱讀：1204 發布時間：2022-11-10
超純水是電阻率達到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
超純水處理，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，
純水和超純水的水質標準
1、避免使用沒有循環回路的超純水，以減少因物料析出和細菌生長造成的污染。
2、持續的循環，才能保證高品質的純水和超純水。
3、用來儲存純水的水箱應配備無菌排氣過濾器、活性炭、二氧化碳吸附劑和潛水式紫外燈，只有使用這些組件，才能保持水質持續在較高的水平。
4、合理的消毒程序可以減少生物膜的形成，應保持良好的定期消毒的習慣。
5、為了防止藻類的繁殖，水箱不能為透明材料制成，或應該防止在避光的柜子內，避免陽光直射。
6、使用析出率較低的材料，如：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)和聚四氟乙烯。當必須要使用不銹鋼時，應使用1.440l(304L，316L)或者更高級別。
7、純化模塊應當定期更換，以保證持續的高水質，并盡量減少可能的細菌污染。
8、應該避免純水循環中的死角和死水區域，在閑置后的每次最初啟用時，應至少排掉0.3-3L體積的初始水，這種方法在一些關鍵應用上尤為重要，例如HPLC,ICP/MS。
9、為保證純水設備的最佳運行狀態，保證出水水質，設備應具有定期維護和定期服務的提示程序，或額外起草維保服務的協議。
10、任何純水設備的排水口都應包含空氣閥，以防止污染。另外需要保證排水管的末端和下水道之間至少有5cm的間隙。