制藥純水設備裝置的要求

閱讀：1997發布時間：2015-10-22

　　制藥純水設備遵循模塊化設計理念,以預處理、氧化消毒、多介質過濾、RO反滲透、UV消毒、EDI連續去離子和儲存外輸等功能單元為基礎,在設計、制造、調試過程中將萊特萊德水處理先進的技術、的工藝和嚴格的質量控制貫徹到每個功能單元;zui終產水裝置根據其用水標準的不同,經由各功能模塊優化組合而成,從而保證了整個系統的高性能與高質量,使產成水*達到或超過純化水和注射用水的水質標準.

　　制藥純水設備裝置的要求

　　1、結構設計應簡單、可靠、拆裝簡便.

　　2、為便于拆裝、更換、清洗零件,執行機構的設計盡量采用的標準化、通用化、系統化零部件.

　　3、設備內外壁表面,要求光滑平整、*,容易清洗、滅菌.零件表面應做鍍鉻等表面處理,以耐腐蝕,防止生銹.設備外面避免用油漆,以防剝落.

　　4、制備超純水設備應采用低碳不銹鋼或其他經驗證不污染水質的材料.制備純化水的設備應定期清洗,并對清洗效果驗證.

　　5、注射用水接觸的材料必須是低碳不銹鋼(例如316L不銹鋼)或其他經驗證不對水質產生污染的材料.制備注射用水的設備應定期清洗,并對清洗效果驗證.

　　6、純化水儲存周期不宜大于24小時,其儲罐宜采用不銹鋼材料或經驗證無毒,耐腐蝕,不滲出污染離子的其他材料制作.保護其通氣口應安裝不脫落纖維的疏水性除菌濾器.儲罐內壁應光滑,接管和焊縫不應有死角和沙眼.應采用不會形成滯水污染的顯示液面、溫度壓力等參數的傳感器.對儲罐要定期清洗、消毒滅菌,并對清洗、滅菌效果驗證.

　　制藥純水設備應用領域

　　電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗;

　　電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水;

　　黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;

　　生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;

　　晶體管生產中純水主要用于清洗硅片;

　　集成電路生產中高純水清洗硅片;

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;

　　半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗;

　　高品質顯像管、螢光粉生產;

　　汽車、家電表面拋光處理等;

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