雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

　　雙靶磁控濺射儀操作規范：

　　雙靶磁控濺射儀開機

　　1、打開冷水機。設定溫度：冬天10-15℃，夏天5℃

　　2、打開放氣閥破真空，然后關閉放氣閥（之后整個工作過程務必保證放氣閥均是關閉狀態。本機閥門均是逆時針打開，順時針關閉）

　　3、打開總控電源

　　4、打開真空計（電阻單元真空范圍10Pa，電離單元0.1-10-6Pa）

　　5、打開燈，檢查鍍膜腔是否關緊（觀察腔四周是否有光線）

　　6、打開機械泵電磁閥，此時務必保證放氣閥已經關閉！?。?/span>

　　7、打開預抽閥

　　8、當壓強達到10Pa以下打開分子泵→運行→關閉預抽閥→*打開插板閥

　　雙靶磁控濺射儀使用

　　1、當腔內壓強真空度達到要求后，打開氣罐（指針調至刻度1-2之間），關小插板閥，儀器的工作氣壓為1-10Pa。

　　2、關閉電離單元按下“自動"→電離→打開進氣閥→流量計（mL/min）

　　3、在保持輸入氣體比例基本不變的條件下調節進氣量或者調節插板閥使氣壓處于1-10Pa，是5Pa，流量計開關一般在“閥控"。

　　4、打開射頻開關“ON"觀察有無起灰，若無起灰再調節功率或進氣量 關機

　　氣體流量計歸零→關閉狀態→關閉進氣閥→關閉控氣閥→關閉插板閥→關閉氣瓶→射頻/直流功率歸零→“OFF" →溫度電源歸零關閉→流量計關閉→分子泵停止待轉速歸零→關閉開關→關閉電磁閥→關閉機械泵→放氣閥打開→放完氣以后關閉。