“旋涂機"是一種利用旋轉離心力的涂布裝置，也被稱為“旋轉涂布機"。對于平滑的被涂物（工件），能夠形成薄且均勻的涂層。旋涂機的用途非常廣泛，代表性用途包括半導體晶圓的表面處理、光阻涂布等流程類工序，以及光學媒介涂膜、鏡頭底劑及調光液的涂布等。

1. A. 旋轉 B. 被涂物表面C. 涂液

將涂液滴落在被涂物（工件）的中心，進行高速旋轉。加速旋轉會對涂液施加離心力，使涂液擴散到整個表面并成膜。涂布膜厚取決于涂液的粘度、被涂物的轉速、旋轉啟動加速度、與干燥速度相關的排氣。
旋涂的原理是依靠旋轉離心力將多余的涂液甩離被涂物，因此實際成膜的液量要少于滴落的液量，存在會導致材料損耗的缺點。

為了通過排氣控制干燥速度，防止涂液飛濺到設備外部，避免異物混入，旋轉體及滴落的機構通常都會被收納在箱體中，或采用涂裱時關閉上蓋的設計式樣。
設備的基本原理在近幾十年并未改變，但適用于被涂物不同尺寸、重量、材質的裝置，轉速（速度）控制、自動滴落之類的規格功能等，都實現了更加多樣化的發展。