電子設(shè)備在進行加工的過程中會因為手指的觸摸流下指紋，而電子設(shè)備這類產(chǎn)品在加工的過程中留下指紋或者是表面粘上灰塵則將會直接影響到產(chǎn)品的質(zhì)量問題，因此在整個加工的過程中需要純水的清洗以保證產(chǎn)品的質(zhì)量，那對于電子設(shè)備清洗用的純水用哪種純水設(shè)備制取?

　　目前市場上的純水設(shè)備分為：超純水設(shè)備、去離子水設(shè)備、純化水設(shè)備、EDI超純水、實驗室純水機、超純水儀、反滲透純水、除鹽水設(shè)備等，對于電子設(shè)備清洗用的純水可以采用超純水設(shè)備進行制取。

　　超純水設(shè)備根據(jù)用戶的用水需求可進行水處理工藝的定制，純水水質(zhì)電阻率最高可實現(xiàn)接近于18.3MΩ.cm，但對于電子產(chǎn)品的清洗純水的要求可低于18.3MΩ.cm。

　　設(shè)備主要采用的反滲透技術(shù)、蒸餾、去離子化或者是其他的水處理工藝，不同的工藝制取的純水水質(zhì)不同。

　　純水的制取也并不是越多越好，制取的純水需在一個小時內(nèi)用完，不能存放太長的時間，否則水的電導(dǎo)率將會出現(xiàn)下降的情況，純水電阻率的下降跟時間是有一定的關(guān)系。

　　純水設(shè)備一般都是以每小時制取水質(zhì)為單位，設(shè)備的規(guī)模大小分為每小時0.25T的，大的則每小時1000T不等。慧聰源環(huán)保工程師可根據(jù)用戶的用水需求對純水設(shè)備的工藝進行定制。