背景介紹

上海市某半導體廠，專注于研發和制造專業應用的晶圓。晶圓生產工藝復雜，其中蝕刻工序使用氫氟酸溶液進行蝕刻、并用高純水清洗，在這個工序中產生了大量的高濃度含氟廢水，含氟廢水經過加藥、混凝沉淀處理后達標排放。

該半導體廠在總排口處安裝了一臺FBM—160 氟離子濃度分析儀。根據國標《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）以及上海市環境保護局發布的地方標準《半導體行業污染物排放標準》（DB31），該半導體廠執行三級標準，其總排口的氟限值為 20mg/L。

氟離子濃度分析儀的現場圖如下圖所示，控制器采用管式安裝，電極采用浸入式安裝。

哈希解決方案

FBM—160 氟離子濃度分析儀采用氟離子選擇電極法，監測方法符合國標 GB7484-1987。氟離子濃度分析儀結構簡單，氟離子電極現場采用浸入式安裝，在無選配自動清洗組件的前提下，每月人工清洗一次電極，三個月校準一次電極。在正常維護條件下，每年更換一次氟離子電極。現場安裝方便，維護較簡單，測量值均低于20mg/L，和實驗室比對數據良好，符合用戶的測量要求。

FBM—160 氟離子濃度分析儀

FBM-160 氟離子濃度分析儀采用國標方法監測——氟離子選擇電極法，不消耗試劑，可更換電極頭，減少維護費用；安裝簡單，可在現場采用浸入池中安裝，也可以在排口采用流通式安裝。可選配自清洗組件，減少用戶的人工清洗工作；具備多個量程,0~99.9mg/L；0~999mg/L或0~9990mg/L，滿足含氟廢水進排口的不同測量范圍需求。

FBM-160 氟離子濃度分析儀廣泛應用于電子行業的含氟廢水監測，在正常維護下，能夠滿足用戶廢水總排口的測量需求。