紫外臭氧清洗機用于鍵合表面活化等試驗，樣品臺高度可調，通過調節燈與樣品之間的間距，可以合理定位樣品高度和位置，位置可鎖定。
紫外臭氧清洗機是通過有機化合物的光敏氧化作用去除附著在工件表面的有機物質，經過紫外臭氧清洗機清洗后的工件表面可達到原子級清潔度。通過高于絕大多數有機物結合能量的紫外光線，發出波長為185nm和254nm的紫外線，空氣中的氧分子吸收紫外光后，會產生臭氧，臭氧可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有較強的氧化性，可切斷碳氫化合鍵，生成水和二氧化碳等可揮發氣體，從而去除工件表面的污染物。
工作條件：
工作環境溫度：5-35℃。
工作環境濕度：≤70%。
該設備在處理ITO,FTO，光學玻璃，半導體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機物，可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性，在襯底涂層或者鍍膜，基片鍵合等方面有廣泛應用。
本公司提供的CIF UVO13紫外臭氧清洗機具有自動補償功能，自動恒定光強光密度，不會因為低壓汞燈老化光強衰減影響清洗效果。數字倒計時顯示清洗時間，1-999分鐘之間可自行設置清洗時間。自動記錄之前清洗參數設置。可隨時手動中斷處理過程。
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