Evident提供多種光學元件，它們可與各種各樣基于顯微鏡的成像設備配套使用，可用于科學研究、醫療保健和制造等領域。為了幫助設備設計人員對其設備進行優化，Evident一直致力于開發融入了更先進技術的物鏡透鏡。作為這項工作的一部分，Evident研究了物鏡透鏡技術如何提升工業檢測的通量。通量（在一定時間內可以處理的檢測數量）是從事半導體、平板顯示器（FPD）和有機發光二極管（OLED）檢測用設備開發工作的設計人員所面臨的共同挑戰。這篇文章涵蓋的新研發的物鏡系列可以提升檢測通量。通常，必須使用具有較短工作距離（WD）的物鏡才能達到晶圓檢測所需的分辨率。使用具有短工作距離的物鏡時，由于物鏡和晶圓之間距離較短可能導致碰撞，所以在晶圓更換期間需要縮回物鏡轉盤。但上下移動顯微鏡物鏡轉盤以更換晶圓所需的時間會延長總體檢測時間并令通量受到限制。
比較具有較短和較長工作距離（左側：1 mm WD，右側：3 mm WD）但放大倍率和數值孔徑相同的物鏡。工作距離較長的物鏡（右側）在物鏡和樣品之間提供了更多空間，從而盡量降低了碰撞風險。我們的客戶希望他們的設備能夠采集高分辨率圖像，并實現半導體晶圓、FPD板和其他樣品的高速輸送，并且所有這些操作都無需縮回或切換物鏡透鏡。滿足這些要求需要一款既具有長工作距離又具備高分辨率的物鏡，這對我們來說是一項不小的挑戰。一般來說，物鏡的工作距離隨著放大倍率和數值孔徑（分辨率）的升高而縮小，因此我們現有的物鏡產品陣容分為高分辨率鏡頭和長工作距離鏡頭。于是，我們決定開發一個新的物鏡系列來滿足客戶的需求：同時具備高分辨率和長工作距離。這一創新成就了我們全新的MXPLFLN物鏡系列。我們全新的MXPLFLN系列所采集的高分辨率圖像具有更大的視場和高平整度（從中心到邊緣的圖像均質性）。這些特性更適合圖像拼接。更寬的視場意味著您只需拼接較少的圖像便可覆蓋整個檢測區域，同時高分辨率的平整圖像可以實現順暢拼接。在平整度方面，該物鏡系列旨在與我們新設計的U-SWATLU鏡筒透鏡配套使用，以實現優良性能。我們建議將它們配套使用，以進一步提升通量。
我們的MXPLFLN系列配備20倍和50倍放大倍率的物鏡。這兩種放大倍率都提供明場和明場/暗場兩種選項。讓我們了解一下它們的特性。MXPLFLN20X和MXPLFLN20XBD 20倍物鏡透鏡明場版本的20倍物鏡（MXFPLFLN20X）采用了我們的一項新的制造技術，NA從0.45提高到了0.6，并具有3mm的更長工作距離。這是Evident同時實現0.6數值孔徑和3mm工作距離的20倍物鏡透鏡。我們的明場/暗場版本20倍物鏡（MXPLFLN20XBD）也具有3 mm的工作距離，同時數值孔徑提高到了0.55。
MXPLFLN 20倍物鏡具備更大的數值孔徑，同時保持了長工作距離MXPLFLN50X和MXPLFLN50XBD 50倍物鏡MXPLFLN50X物鏡是Evident同時實現0.8數值孔徑和3 mm工作距離的50倍物鏡透鏡。到目前為止，LMPLFLN100X物鏡是少有的可在單個物鏡中同時實現高分辨率和長工作距離的選擇。現在，全新設計的MXPLFLN50X物鏡集高分辨率與長工作距離于一身。它還具有相當于LMPLFLN100X物鏡4倍的視場。這一更寬的視場有助于縮短檢測時間，從而提升通量。該系列中還加入了弱光物鏡類型。
左圖：LMPLFLN100X（0.8 NA，3.4 mm WD）
右圖：MXPLFLN50X（0.8 NA，3 mm WD）
比較視場。MXPLFLN50X物鏡（右側，50倍放大倍率）比LMPLFLN100X物鏡（左側，100倍放大倍率）具有更寬的視場，因此可實現更快的圖像拼接。
Evident擁有悠久的光學設計歷史，始終立志于生產高質量物鏡透鏡。在設立3mm工作距離目標后，我們利用自身的設計專長實現了適合該工作距離的高分辨率成像。傳統上，實現物鏡的高分辨率和長工作距離需要增大透鏡直徑和提高光線高度。為了解決這一問題，Evident開發了采用新型玻璃材料的全新MXPLFLN物鏡系列，該系列集成了多種低色散鏡片類型，這些類型現已成為Evident高分辨率優質物鏡透鏡的標準配置。這些物鏡還具備反射光或冶金物鏡透鏡罕見的專用色散鏡片。這種鏡片可有效地同時校正縱向和橫向色差。此外，通過使用為Evident高性能X Line物鏡系列開發的超薄透鏡技術，同時實現了高分辨率和高平整度，從而增強了圖像質量。Evident的透鏡制造工藝還遵循嚴格的標準，能夠獲得穩定的產品質量。這包括使用波前像差控制技術來限制物鏡透鏡的光學性能變化。Evident還提供一系列其他高品質光學元件，可以與您的設備設計配套使用。
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