2 在硅碳管噴鋁部位裝上電極卡，接上導線。

3 調節控制箱位置，使攝像頭對準高溫爐的觀測孔。

注意：攝像頭與高溫爐觀測孔應保持約25-30厘米的距離，以免距離太近，爐溫過高輻射造成攝像頭損壞。

4 安裝高溫爐的硅碳管和內套管，將熱電偶從爐體后部插入高溫爐內套管中恒溫區內（一般在正中央），鶴壁市興鶴熱值儀器儀表公司調節熱電偶尾端使熱電偶位于內套管上部，連接高溫爐硅碳管的兩極控制后同板上的負載接線柱。

5 用隨機配備的電纜線將控制箱上的視頻，控制插頭與計算機上的對應插頭連接起來。

6 連接熱電偶兩極與控制箱熱電偶兩極接口。

7 用電纜線將電源接在控制箱上的“電源”接線柱上。

　1、高溫帶測定。灰熔點測定儀安裝好后，必須測量其高溫帶，以選擇試樣置部位。

　　2、 試樣放置于灰錐托板上，灰錐托板放置于剛玉舟之槽中，若采用封碳法產生還原性氣氛，應在剛玉舟里放置控制氣氛用物質，如木炭、無煙煤、石墨等。

　　3、爐內氣氛控制

　　（1）、弱還原性氣氛

　　本儀器之高溫爐膛為氣疏的高剛玉管，其弱還原性氣氛的控制方法是：于爐膛中央放置石墨、無煙煤外，亦可是木炭、焦碳、石油焦等。它們的粒度、數量和放置位置時、視具體情況而定。

　　(2)氧化性氣氛

　　爐內不放任何碳物質,并使空氣自由流通.

　　(3)爐內氣氛監定

　　當采用封入含碳物質的辦法來產生弱還原性氣氛時,需用下列方法之一來判斷爐內氣氛:

　　A、 標準錐法：選取含Fe2O3h20—30%的易熔煤灰預先在強還原性（爐內通100%的H2或封入大量無煙煤或木炭）、弱還原性和氧化性氣氛中分別測出其熔融性特征溫度（在強還原性和氧化性氣氛之內T2和T3 應比弱還原性氣氛者高100—300℃），然后以它們為標準來鑒定爐內氣氛。如測出的T2和T3與弱還原性氣氛中的測定值相差不超過50℃，則證明爐內氣氛為弱還原性。否則，應根據它們與強還原性和氧化性氣氛中的測定值的相關情況，以及封入含碳物質的氧化程度來判斷氣氛是強還原性還是氧化性。

　　B、取氣分析法：用一根剛玉管從爐子高溫帶以5～7mL/min 的速度取出氣體進行成分分析。如在1000～1300℃范圍內還原性氣體(CO、H2和CH4)體積百分含量為10%～70%，同時1100℃以下時它們和CO2之體積比≤1∶1，O2含量≤0.5%，則為弱還原性氣氛。

　　4、 溫速度控制