日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備
日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備
臥式熱處理設備H系列
這是一款高度可靠的熱處理爐，擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。
特征
這是一種臥式爐，用作氧化爐、擴散爐和退火爐。
可以在一臺設備上選擇不同的進程。
我們的目標是通過使用 3 層或 4 層配置來節省空間。
5 個區域加熱器均獨立控制，可實現溫度控制，具有出色的熱均勻性和穩定性。
配備內部控制系統，操作簡單可靠。
H83-125和H84-125標配船用升降機，可以輕松裝載到上層。
可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。
目的
硅片的熱氧化、擴散和退火
規格
| 模型 | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| 過程 | 氧化、擴散、退火 | ||
| 晶圓直徑 | ～200mm（8英寸） | ||
| 級數 | 3 | 3 | 4 |
| 產品晶圓數量 | 50 | 125 | 125 |
| 加熱區 | 5 | ||
| 加熱器材質 | 鐵鉻鋁 | ||
| 常用溫度 | 600～1200℃ | ||
| 浸泡長度 | 370毫米 | 800毫米 | 800毫米 |
| 溫度均勻 | ±1.0℃ | ||
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