粒度分析儀器就是針對生產(chǎn)現(xiàn)場的實(shí)際需要，發(fā)展起來的一種實(shí)時粒度分析手段，它具有實(shí)時性，連續(xù)性，抗電磁、高溫、粉塵、震動、腐蝕性干擾能力，為控制系統(tǒng)提供準(zhǔn)確的控制信號，真正實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)自動化、監(jiān)測科學(xué)化。

 

　　粒度分析儀器的使用過程中，對于使用者來說，如何選取儀器的遮光比對于提升儀器度是很有影響的，所謂的遮光比就是在使用納米激光粒度儀測試樣品時，配置的樣品懸浮液的濃度，遮光比的正確選擇是激光粒度儀在粒度測試過程中的重要的步驟，遮光比是否合適或者說被測樣品的濃度是否合適嚴(yán)重關(guān)系到粒度測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和代表性。

 

　　粒度分析儀器的測量原理要求在測試過程中，樣品的濃度以樣品中顆粒之間相互不發(fā)生二次散射為原則，理論上就是要求懸浮液或者空氣中顆粒之間的距離為顆粒直徑的3倍，但是這個要求非常難以掌握，因此在實(shí)際的粒度測試中，通過調(diào)整遮光比的數(shù)值來盡量保證顆粒之間不發(fā)生二次散射。遮光比不宜過大（超過50%）或者過小（低于5%），遮光比過大時，顆粒的濃度過高，容易發(fā)生二次散射，測量結(jié)果誤差增大；遮光比過低，樣品中顆粒的濃度太低，顆粒數(shù)太少，測試結(jié)果的代表性很差，甚至可能導(dǎo)致測試結(jié)果是無效的，因此在測試過程中，對遮光比的選取要通過反復(fù)試驗，以得到正確的測量結(jié)果。

 

　　一般來說，對于比較粗的樣品，遮光比可以選擇的比較高，如20~30%，正常情況可以為10~25%;對于超細(xì)的樣品，粒度分析儀器可以適當(dāng)降低樣品的遮光比，但一般不要超過40%，這些都是實(shí)驗得到的經(jīng)驗數(shù)值，但還需通過反復(fù)實(shí)驗，找到對應(yīng)樣品測試時遮光比的數(shù)值。