安捷倫ICP-MS具有*自動化的易于使用、靈活性、可靠性以及優良的設計，它提供了高水平的分析性能。可配備第二代八級桿反應池(ORS)技術，提供多種選擇的進樣附件、應用與維修服務支持，它正在帶領實驗室進入ICP-MS時代。
安捷倫ICP-MS的分析特性：
可快速同時檢測周期表上幾乎所有元素
低檢出限(低至ppq級)
分析效益/成本比
線性動態范圍寬—可直接檢測從ppq到數百ppm濃度
譜線簡單、干擾小，準確度和精密度好
需要樣品量很低(ul至ml)，分析速度很快(1——3分鐘/樣品)
檢測模式靈活多樣
半導體工業常用材料中超痕量污染物分析：
固體：Si;GaAa單晶切片;石英、碳化硅等爐材料;高純金屬電極等
安捷倫ICP-MS可直接分析有機樣品：
安捷倫ICP-MS的能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術已被用于測定一系列有機樣品的ppt級痕量污染元素。
對其中一些樣品，其他方法無法獲到滿意的結果，高功率屏蔽矩冷等離子體技術是種分析方法。
強堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等
高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發性*的清洗劑
安捷倫ICP-MS樣品溶液的配制
樣品溶液的配制方法由樣品本身性質決定，主要有以下四種配制方法：
1.直接法：主要適用于液體類樣品及其他無需處理樣品。
2.直接水溶液：適用于溶于水的樣品。
3.直接有機溶液：適用于溶于有機溶劑的樣品。該方法可能需要使用選擇性氣體。
4.間接溶液法：適用于不溶于水或有機溶劑的樣品。推薦總金屬提取得到間接溶液，樣品采用密閉容器消化等類似方式。
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