賽默飛X光電子能譜儀是電子材料與元器件顯微分析中的一種先進分析技術(shù)，而且是常常配合使用的分析技術(shù)。

 

　　由于它可以更準確地測量原子的內(nèi)層電子束縛能及其化學位移，所以它不但為化學研究提供分子結(jié)構(gòu)和原子價態(tài)方面的信息，還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成和含量、化學狀態(tài)、分子結(jié)構(gòu)、化學鍵方面的信息。

 

　　它在分析電子材料時，不但可提供總體方面的化學信息，還能給出表面、微小區(qū)域和深度分布方面的信息。另外，因為入射到樣品表面的X射線束是一種光子束，所以對樣品的破壞性非常小。

 

　　賽默飛X光電子能譜儀的應(yīng)用范圍：

　　光電子能譜是研究材料表面和界面電子及原子結(jié)構(gòu)的重要手段之一，可提供物質(zhì)表面幾個原子層的元素定性、定量信息和化學狀態(tài)信息；可對非均相覆蓋層（如薄膜）進行深度分布分析，了解元素隨深度分布的情況；可對元素及其化學態(tài)進行成像，給出不同化學態(tài)的不同元素在表面的分布圖像；還可利用UPS（紫外光電子能譜）研究固體樣品的價電子和能帶結(jié)構(gòu)及功函數(shù)。廣泛應(yīng)用于固體物理學、基礎(chǔ)化學、催化科學、腐蝕科學、材料科學、微電子技術(shù)及薄膜研究。