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            應用案例 | LED球形燈珠切片制備

            時間:2024/1/16閱讀:216
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            現代室內外對于各種裝飾性和功能性照明的使用已經廣泛普及,對于照明的組件要求越來越高。球形燈珠采用LED芯片做為發光體,具有較高的發光效率,熱量低、壽命長,可適應溫度范圍寬,外觀造型靈活多變,可營造明亮、多樣的視覺氛圍。

            然而球形燈珠容易損壞失效,失效原因有可能是內部的鍵合球過大、過小、鍵合不牢、虛焊等。這些可以通過對球形燈珠進行切片制備,結合顯微觀察分析出具體原因。

            本文選取1LED球形燈珠,分享其切片制備方法。

            圖片1.png

             

            圖片2.png

            1.原始樣品

             

            1、 鑲嵌

            樣品較小,為了更好地保存樣品、便于研磨和后續的自動拋光,將它鑲嵌成直徑2mm尺寸大小的圓柱塊。

            鑲嵌采用澆注冷鑲嵌的方法,選用標樂型號為EpoKwick TM FC的環氧樹脂及相應固化劑套裝,這款樹脂流動性很好、收縮率較低,對樣品的保護效果很好。鑲嵌流程如下圖所示。

            圖片3.jpg

             

            2.鑲嵌流程示意圖

             

            該過程還使用了型號為SamlKupTM的模杯,模杯直徑為25 mm,并配合型號為Release Agent的脫模劑使用。

             

            2、 磨拋

            研磨與拋光采用標樂的手自一體磨拋機AutoMet250的手動和半自動模式。參數如下表所示。

            1.機械磨拋參數

            步驟

            制備表面

            研磨劑/粒度

            底盤

            轉速(rpm

            動力頭

            轉速(rpm

            相對

            轉向

            載荷(N

            時間(min

            1

            SiC耐水砂紙

            P320

            150

            -

            -

            -

            手動磨近目標

            2

            SiC耐水砂紙

            P1200

            150

            -

            -

            -

            手動磨至目標

            3

            VerduTex

            拋光布

            9um金剛石

            懸浮液

            130

            60

            同向

            15

            拋至金線中間

            4

            VerduTex

            拋光布

            3um金剛石

            懸浮液

            130

            60

            同向

            15

            5

            5

            ChemoMet

            拋光布

            0.05um Al2O3

            懸浮液

            110

            60

            異向

            15

            2

             

            研磨拋光步驟可選擇適于硅和有色金屬的通用耗材,由于燈珠內部LED芯片很小,尤其是鍵合球和金線,制備過程關鍵的是定位磨拋,定位過程需要借助顯微鏡觀察。

            研磨階段磨至金線邊緣,且注意保持切面不偏離。µm拋光步驟仍具有一定去除材料的作用,但是又不會給材料造成過多的損傷,因此可以在µm拋光階段,將樣品從金線邊緣拋至金線中間,這樣保守的步驟,是為了能夠在9 µm拋光階段充分地去除研磨階段造成的損傷。接下來便可通過3 µm拋光步驟去除9 µm拋光步驟帶來的損傷。由于µm的金剛石粒徑很小了,不會再引入劃痕以外的明顯的損傷,最后可直接進行0.05 µm氧化鋁拋光步驟,此間幾乎不會對樣品起到去除的作用,僅將光鏡下較明顯的劃痕抹除,得到光亮的平面。

             

             

            3、 顯微觀察

            最終研磨結果如下圖:

            圖片4.png 

            4.LED球形燈珠內部鍵合球截面

            以上光鏡圖示中,燈珠內部結構完整。更細微的形貌特征可進一步采用高倍電鏡進行觀察分析,如需分析納米級別的形貌特點,建議在此基礎上進行離子束拋光后觀察。

            4、 小結:

            1) 鑲嵌時要保證樣品垂直;

            2) 定位研磨時,需要適時觀察研磨位置,避免研磨掉目標點;

            3) 以上研磨與拋光參數對當前樣品有效,僅供參考,可根據具體樣品的材料類型進行調整。

             

            5、 所用儀器:

            標樂手自一體研磨機AutoMet250

            圖片5.png

             

            徠卡金相顯微鏡DVM6

            DVM6-removebg-preview.png

             

             


             

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