原理

照明光束經半反半透分光鏡分成兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個表面反射的兩束光相互干涉，在CCD相機感光面會觀察到明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的亮度取決于兩束光的光程差，根據白光干涉條紋明暗度以及干涉條紋出現的位置計算出被測樣品的相對高度，從而得到樣品表面的三維尺寸信息。如下圖所示。

白光干涉儀的優點

非接觸式測量，不損傷樣品；

測試效率高，幾秒鐘成像，自動分析結果；

高度方向分辨率高，在不同物鏡下均可達0.1nm，實現亞納米級的測量；

優異的重復性；

分析功能強大，簡便易用；

優異的擴展性。

白光干涉儀的作用

可以進行膜厚測量，溝槽測量，翹曲分析，表面粗糙度測量，表面高度及盲孔測量，樣品表面圖案尺寸測量等。廣泛應用于半導體，光學器件，太陽能電池，MEMS，生命科學，材料學等行業。

布魯克白光干涉儀介紹

WYKO白光干涉儀誕生于1982年，2010年加入布魯克，與布魯克強強聯合，經過40多年技術不斷發展及革新，布魯克白光干涉儀已經逐步在行業中內有良好口碑。且：

3項 美國R&D 100 大獎

6項 Photonics Circle of Excellence Awards大獎

根據不同的應用場景及樣品情況，布魯克有以下等多個型號供用戶選擇：

ContourX-100                                ContourX-200

ContourX-500                             ContourX-1000   

NPFLEX-1000                                    ContourSP

應用及效果

布魯克白光干涉儀的應用及效果

表面粗糙度測量

表面高度測量

表面高度及盲孔測量

溝槽自動分析

三維實時測量

表面翹曲測量

軟件界面分析

       布魯克白光干涉儀因其操作簡便，分辨率及重復性良好，軟件分析功能強大，且售后服務專業及時等優點，從而成為形貌測量工程師的選擇，并被廣泛運用于半導體，光學器件，太陽能，微電子，材料學等各個行業。