環掃電鏡是一種掃描電子顯微鏡，利用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。最常見的掃描電鏡模式是檢測由電子束激發的原子發射的二次電子。可以檢測的二次電子的數量，取決于樣品測繪學形貌。
 

　　環掃電鏡常見分類：
 

　　1.分析掃描電鏡:掃描電鏡配備X射線能譜儀EDS后發展成分析掃描電鏡，不僅比X射線波譜儀WDS分析速度快、靈敏度高、也可進行定性和無標樣定量分析。
 

　　2.場發射槍掃描電鏡：場發射掃描電鏡得到了很大的發展，不僅提高了常規加速電壓時的分辨本領，還顯著改善了低壓性能。
 

　　3.低壓掃描電鏡：低壓掃描電鏡LVSEM由于可以提高成像的反差，減少甚至消除試樣的充放電現象并減少輻照損傷，因此受到了人們的囑目。
 

　　環掃電鏡應用領域：
 

　　1.顯微結構的分析：由于掃描電子顯微鏡可用多種物理信號對樣品進行綜合分析，并具有可以直接觀察較大試樣、放大倍數范圍寬和景深大等特點，當陶瓷材料處于不同的外部條件和化學環境時，掃描電子顯微鏡在其微觀結構分析研究方面同樣顯示出極大的優勢。
 

　　2.納米尺寸的研究：高分辨率的掃描電子顯微鏡在納米級別材料的形貌觀察和尺寸檢測方面因具有簡便、可操作性強的優勢被大量采用。
 

　　3.鐵電疇的觀測：掃描電子顯微鏡觀測電疇是通過對樣品表面預先進行化學腐蝕來實現的，可以將樣品表面預先進行化學腐蝕后，利用掃描電子顯微鏡圖像中的黑白襯度來判斷不同取向的電疇結構。對不同的鐵電晶體選擇合適的腐蝕劑種類、濃度、腐蝕時間和溫度都能顯示良好的疇圖樣。