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            深圳摩方新材科技有限公司

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            技術破局,微納3D打印如何構建超材料“超自然”能力?

            閱讀:109      發布時間:2025-6-3
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            超材料(Metamaterials)發展得益于多學科交叉融合,通過人工結構構建而實現超越天然材料的特性。在制造與前沿材料深度融合發展浪潮中,超材料“超自然"能力成為科研界、工程界關注的熱門學科,其衍生技術也逐步深入航空航天、人形機器人、無線通信、隱身材料、高精度成像等多個科技領域。

            超材料性能實現從改變構成材料的微觀粒子屬性和排列形式開始,那么微觀物理尺寸的極限,該如何突破?微納3D打印在跨越傳統制造工藝精度桎梏下,為超材料從拓撲結構的設計失準,到復雜晶格的三維成型失控提供了一種微尺度快速成型解決方案,進而加速了超材料理論模型向產業化應用的跨越。

            高精度、輕量化是超材料發展的必經之路

            當全球科技競爭進入"微米級戰場",超材料研發已不僅是材料科學的獨角戲,更是精密制造、智能控制、跨學科融合的系統工程。

            摩方精密創新研發的面投影微立體光刻(PμSL)技術不僅實現了2微米級超高光學精度,還自主研發出復合精度光固化技術,通過創新性地融合多精度層級加工策略,實現了2μm至100mm*100mm*50mm的跨尺度加工能力,解決了高精度制造中“精度越高、尺寸越小"的固有矛盾。

            01 正負泊松比超材料

            西安交通大學的洪軍/李寶童課題組通過對巨量高精度性能數據的分析,建立了一種精準計算力學性能的理論模型,并基于模型進一步提出了用于獲取可編程極限性能的幾何設計準則。

            團隊采用摩方microArch® S240(精度:10μm)3D打印設備,完成了在楊氏模量上具有兩個數量級以上增強效果的材料樣件的制備,并實現了樣件在長度尺度上由微米尺度到宏觀尺度的跨越。

            02 三維內凹負泊松比結構材料

            中國工程物理研究院唐昶宇研究員團隊和西南交通大學許陽光副教授團隊共同設計了一種新型的三維內凹負泊松比結構材料并對其結構參數與等效彈性模量和泊松比的關聯機理開展了系統的研究。

            通過在典型的三維內凹結構上添加箭頭結構來實現增強目的,團隊利用摩方nanoArch® P150(精度:25μm)3D打印系統制備了增強型結構。研究通過特別的結構設計,實現了在幾乎不犧牲負泊松比效應的前提下顯著提高材料的剛度,為進一步拓寬負泊松比結構材料的應用范圍提供了一種有效的解決方案。

            DOI:10.1088/1361-665X/acb1e4


            03 親鋰氧化石墨烯多通道結構

            北京理工大學的研究團隊提出了一種加速梯度力學超材料逆向設計的深度學習方法。發展了一種由對抗神經網絡(GAN)、性能預測網絡(PPN)和結構生成網絡(SGN)組成的多重網絡深度學習框架,可實現力學性能參數和拓撲構型的快速雙向映射。

            基于此深度學習框架,將各向異性材料楊氏模量、剪切模量和泊松比組成的屬性空間,類比于R-G-B色彩空間,進而將梯度力學超材料逆向設計轉換為色彩匹配問題。團隊利用摩方nanoArch® S140(精度:10μm)制備了超材料結構樣件,采用數字圖像相關(DIC)方法驗證了逆向設計的有效性。

            DOI:10.1016/j.ijmecsci.2022.107920


            04 混合多層級點陣材料

            清華大學李曉雁教授課題組采用桁架和平板單胞作為基本單元構筑設計了多種新型的混合多層級點陣結構,并采用摩方microArch® S240(精度:10μm)制備了相應的多層級微米點陣材料。研究中的復合分級結構,整體尺寸8*8*8mm3,最小特征尺寸40.6-140.8μm。

            相比于單一層級的平板點陣,桁架-平板混合多層級點陣具有密度更低、易于制備的優點,在構筑輕質且具有優異力學性能的新型結構材料方面具有重要的應用前景。

            DOI:10.1002/smll.202206024

            創新賦能,產學研深度融合加速技術轉化

            超材料從實驗室走向產業化,遵循“技術驗證-中試放大-產業落地"的發展路徑。摩方精密構建的“設備+材料+服務"全生態解決方案體系,為科研團隊提供了成果轉化全鏈條支持。

            隨著摩方全新智能化技術升級,搭載復合精度光固化技術的新一代3D打印系統:microArch® D0210(精度:2&10μm)和D1025(精度:10&25μm),不僅支持雙精度智能化切換,全系匹配增速提效的自動化水平調節系統,結合高精度運動控制與智能液面調節系統,在保持高光學精度的同時,支持跨尺度大幅面與重復陣列打印模式,顯著提升了制造效率與工藝普適性,為實驗室研發到工業制造提供了全面系統化的解決方案。

            從實驗室的微觀結構到產業界的宏觀應用,摩方精密以微納3D打印為支點,從2-25μm超高精度系統構建,到多材料體系的生態布局,再到科研產業化落地的閉環打通,每一步都印證著中國智造從跟跑到創新自主的時代軌跡。

            未來,隨著摩方微納3D打印技術的持續創新迭代,超材料將在更多維度釋放潛能,為全球產業升級與人類文明進步提供不竭動力。

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