碳鍍膜機與高真空蒸發設備的區別

碳鍍膜機主要分為僅有旋轉泵排氣的設備或配備渦輪泵的高真空蒸發設備。了解高真空蒸發設備性能的差異在選擇設備時非常有用。

	旋轉泵排氣氣相沉積設備 VC-300S/W、VES-10	高真空抽真空沉積設備 VE-2013、VE-2050 等
真空排氣系統	旋轉泵	旋轉泵+渦輪分子泵
沉積真空度	1-2（帕）	5×10 -3 (Pa)以下
顆粒感	顆粒細，但膜較粗。	顆粒細密，膜質美觀。
膜質量	該薄膜粗糙且易碎，因為它在與殘余分子碰撞時積累。	無殘留分子，顆粒呈直線飛行、粘附，膜質潔凈、堅固。
環繞能力	它在與殘余分子碰撞時向多個方向散射，因此具有一些環繞特性。	顆粒沿直線飛行并粘附，但在陰影區域不形成薄膜。
使用碳氣相沉積的目的	切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜等。	切片和支撐膜的強化、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。

*碳鍍膜機是針對特定用途而設計的，其用途有限，但可以降低設備價格。

該裝置是用于TEM、SEM、X射線分析等的碳膜生成裝置。用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。 300W 用于創建特別厚的碳膜，例如 XMA 和 FIB 樣品的保護膜。

使用旋轉泵進行碳沉積，同時使用皮拉尼真空計監測真空水平。通過始終蒸發一定量的碳，可以實現高度可再現的碳沉積。

請使用專用補充裝SLC-30作為碳源。
300S有一對電極，300W有兩對電極。 300W 使您可以通過開關將涂層厚度增加一倍。
旋轉泵（RP）為外置落地式。請將其安裝在堅固的工作臺上，以免與RP的振動產生共振。無需水冷。

該產品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉泵和 SUS 軟管。
需要親臨現場講解安裝和操作。

VC-300設備規格

物品	規格
電源	AC100V（單相100V 15A）
設備尺寸	W255mm x D375mm x H430mm 重量 18kg
旋轉泵	排氣速度 50?/min (GLD-051) 重量 14.6kg
樣品室尺寸	內徑120mm x 高140mm
樣品臺尺寸	Φ100mm
氣相沉積源-樣品臺距離	45mm 至 75mm 可調
可安裝樣品尺寸	Φ98mm，最大樣品高度40mm
氣相沉積電源	排氣、蒸發。 每個固定電壓進行 2 步切換，預設為最佳電壓
碳源	專用補充型碳SLC-30

VC-300 耗材清單

如果夾緊彈簧和防塵板等零件出現劣化或損壞，我們還可以單獨制造它們。
對于任何其他維護/維修查詢，請通過服務查詢與我們聯系。