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            武漢頤光科技有限公司

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            橢偏儀在平板顯示行業中應用

            閱讀:566      發布時間:2025-2-8
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            01平板顯示行業測量介紹

            02平板顯示行業的量測意義

            03平板顯示行業的測量解決方案

             01 平板顯示行業測量介紹

            平板顯示器件于20世紀60年代出現,主要包括液晶顯示器、發光二極管、等離子顯示板、電致發光顯示器等。目前液晶顯示LCD(Liquid Crystal Display)與有機電致發光顯示OLED(Organic Light-Emitting Diode)為平板顯示行業主要顯示技術,占據行業絕大部分產值。

            檢測是面板生產過程的必要環節。面板顯示檢測的作用是在面板顯示器件的生產過程中進行光學、信號、電氣性能等各種功能檢測,發現制程中的缺陷,避免產品流片至后段造成更大損失。以市占率最大LCD為例,平板顯示器件主要分為彩膜Color Filter(CF)、陣列 (Array)、成盒(Cell)和模組(Module)四個制程,生產制程中均需要相應的檢測。

             

              02平板顯示行業的量測意義

            CF和Array制程中,成膜質量的好壞直接關系到產品性能和合格率。以CF制程為例主要由黑色矩陣(Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、平坦層(Overcoat)、支撐柱(Photo Spacer)、配向膜(Polyimide Film)組成,結構示意圖如圖1所示。

            img1 

            1 CF側結構示意圖

            CF制程膜層的光學性能和膜厚,與TFT-LCD的亮度(出光效率)、對比度等產品光學性能與直接相關黑色矩陣BM(Black Matrix),其主要作用是隔絕RGB色阻防止混色,以及防止漏光,因此BM材料要求透過率低。制作BM的材料一般有Cr、CrOx及黑色樹脂等。RGB是顯示的三原色,RGB用于組成和顯示所有其他顏色,如圖2所示。當白光照射時,色阻會反射單色光(RGB),色阻材料會吸收其余波段的光,形成所需顏色。PI配向膜是TFT-LCD顯示屏的關鍵材料,該材料在成盒(Cell)工段被涂覆在基板與彩膜上,通過摩擦配向或光配向后,用以協助液晶分子按特定方向排列。這種結構一般具有多軸光學性質,因此表征需要考慮到光學各向異性。對這些膜層的光學參數和厚度進行快速、非破壞、準確的量測能有效提高平板顯示器件的產品性能和合格率,具有重要的意義。

             

            img2 

            2 RGB三原色

             

            03平板顯示行業的測量解決方案

            實物展示

             

             

            橢圓偏振光譜法是一種物理測量方法,即使用偏儀(SE)來獲取薄膜的厚度和光學常數。具有無損傷樣件、靈敏度高和量測速度快等優點,可精確地表征介質膜(如SiOxSiNx等)、優異光電性能的氧化銦錫(ITO)、聚酰亞胺(PI)以及非晶硅(a-Si)等單層或多層薄膜的膜厚及材料的光學特性(如折射率、組分、各向異性和均勻性),是一種可以滿足以上量測需求的解決方案。

            img3 

             

            型號

            ME-Mapping

            光斑大小

            大光斑:2-4mm
            微光斑:200μm/100μm/50μm

            測量光譜

            16*16階穆勒矩陣

            波段

            380-1000nm(支持擴展至210-2500nm

            單次測量時間

            1-8s

            入射角

            65°

            焦方式

            自動找焦

            Mapping行程

            XY: 200*200mm

            XY: 300*300mm

            支持樣件尺寸

            2-8寸(可擴展至12寸)

            產品優勢

              集成激光測距儀找焦、多尺寸自動Mapping,最佳探測光強自動變檔切換,圖像識別與定位,一鍵生成報告等功能,極大的提升設備智能便利化程度。

             

             

             

            img4 

            型號

            SE-VM-L

            光斑大小

            微光斑:200μm

            測量光譜

            16*16階穆勒矩陣

            波段

            380-1000nm(支持擴展至210-2500nm

            單次測量時間

            1-8s

            入射角

            手動變角45-90°5度間隔°

            焦方式

            手動找焦

            支持樣件尺寸

            2-8

            產品優勢

              高性價比光學偏測量解決方案,緊湊集成化,人機交互設計,使用便捷

             

             

             

             

             

            樣件膜層結構實測數據

             

             

             

             

            黑色矩陣BM

            玻璃基底單層BM膜層進行建模測量,其結構示意圖見圖3

             

             

            3 BM膜層結構

             

             

            黑色矩陣BM光譜擬合結果如圖4所示使用偏建模軟件仿真得到的透過率如圖5所示,滿足工藝預期。

            img5 

            4 Glass-BM偏光譜擬合圖

             

            img6 

            5 仿真BM透過率曲線

             

             

            阻層RGB

            玻璃基底單層R進行建模測量,其結構示意圖見圖6

             

             

            6 R膜層結構

             

            R色阻的擬合結果如圖7所示,測量偏參數與仿真參數匹配度高,GOF>0.95。其透過率擬合結果如圖8所示,實測與建模仿真得到的透過率一致。

            img7 

            7 Glass-R偏擬合光譜曲線

             

            img8 

            8 Glass-R透過率擬合曲線

             

            對樣品進行多點測量,R色阻的厚度分布如圖9所示,與參考一致,滿足預期。

            img9 img10

            9 Glass-R薄膜wafermap

             

             

             

            配向膜PI

            Si或者玻璃基底的單層配向膜PI進行建模測量,其結構示意圖見圖10

             

             

            10 PI膜層結構

             

            配向膜PI偏光譜擬合結果如圖11所示,測量偏參數與仿真參數匹配度高,GOF>0.95,其nk各項異性表征如圖12所示。

            img11 

            11 配向膜偏光譜擬合曲線

             

            img12 

            12 PInk各項異性曲線

             

             

             

             


             



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