鐵電半導(dǎo)體材料因其可切換的自發(fā)極化特性和非易失性存儲(chǔ)能力，對(duì)于開(kāi)發(fā)新型低功耗電子器件和非易失性記憶體具有巨大的潛力。這些材料能夠通過(guò)外部電場(chǎng)來(lái)調(diào)控其宏觀極化特性，從而影響載流子傳輸性能。然而，要在同一薄膜材料中同時(shí)實(shí)現(xiàn)強(qiáng)大的鐵電性質(zhì)和優(yōu)異的半導(dǎo)體特性卻是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。錫（Sn）基鈣鈦礦半導(dǎo)體近年來(lái)受到了廣泛關(guān)注，這主要?dú)w因于它們的p型特性、較低的載流子有效質(zhì)量以及高遷移率。但是，由于這類材料通常具有較高的載流子濃度，內(nèi)部電場(chǎng)無(wú)法被有效屏蔽，導(dǎo)致鐵電極化減弱或消失，使得在Sn基鈣鈦礦中觀察到強(qiáng)鐵電性變得極為困難。

近年來(lái)，研究人員一直在探索各種方法以期能在保持良好半導(dǎo)體性能的同時(shí)引入顯著的鐵電性。傳統(tǒng)上，鐵電材料依據(jù)帶隙能量分為絕緣體（如Hf0.5Zr0.5O2, BaTiO3等）和半導(dǎo)體（如α-In2Se3, β-CuGaO2, SnS等）。當(dāng)帶隙大于3eV時(shí)，材料一般被視為絕緣體，適用于介電應(yīng)用；而較小帶隙的鐵電半導(dǎo)體則因?yàn)楦郊拥姆且资澡F電場(chǎng)促進(jìn)了載流子傳輸能力，適合用于低功耗電子學(xué)和非易失性記憶體。然而要制備出既能表現(xiàn)出強(qiáng)大鐵電性又能維持出色半導(dǎo)體特性的薄膜，仍然是一個(gè)亟待解決的問(wèn)題。特別是對(duì)于Sn基鈣鈦礦來(lái)說(shuō)，盡管其作為半導(dǎo)體表現(xiàn)出了良好的前景，但如何賦予其穩(wěn)定的鐵電性一直是該領(lǐng)域的一個(gè)瓶頸。此外，隨著摻雜濃度的增加，雖然電阻會(huì)降低且鐵電性得以保持，但一旦載流子濃度超過(guò)臨界閾值，就會(huì)完全屏蔽鐵電極化，導(dǎo)致失去鐵電對(duì)稱性破缺這一基本特征。因此找到一種方法來(lái)使Sn基鈣鈦礦半導(dǎo)體材料具備穩(wěn)健的鐵電性，對(duì)于推動(dòng)相關(guān)電子器件的應(yīng)用和發(fā)展至關(guān)重要。

針對(duì)上述問(wèn)題，復(fù)旦大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)利用澤攸科技JS系列臺(tái)階儀進(jìn)行了深入研究，該團(tuán)隊(duì)通過(guò)向Sn基鈣鈦礦（93.3 mol%(FA0.86Cs0.14)SnI3 和 6.7 mol% PEA2SnI4）半導(dǎo)體薄膜中摻入2-甲基苯并咪唑（MBI），成功地將這些薄膜轉(zhuǎn)換為鐵電半導(dǎo)體薄膜。相關(guān)成果以“Emergence of ferroelectricity in Sn-based perovskite semiconductor films by iminazole molecular reconfiguration”為題發(fā)表在《Nature Communications》期刊上，原文鏈接：DOI:10.1038/s41467-024-55113-0

論文的主要研究?jī)?nèi)容聚焦于通過(guò)分子重構(gòu)的方法，在Sn基鈣鈦礦半導(dǎo)體薄膜中引入強(qiáng)鐵電性，從而實(shí)現(xiàn)兼具優(yōu)異半導(dǎo)體特性和顯著鐵電性的材料。研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)向Sn基鈣鈦礦（93.3 mol%(FA0.86Cs0.14)SnI3 和 6.7 mol% PEA2SnI4）中摻入2-甲基苯并咪唑（MBI）分子，成功地將這些薄膜轉(zhuǎn)換為鐵電半導(dǎo)體薄膜。MBI分子的引入不僅增強(qiáng)了材料的結(jié)晶度，還通過(guò)形成強(qiáng)氫鍵導(dǎo)致了空間對(duì)稱性的破缺，從而使正負(fù)電荷中心不再重合，進(jìn)而誘導(dǎo)了強(qiáng)烈的鐵電極化。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，摻雜MBI后的Sn基鈣鈦礦薄膜表現(xiàn)出明顯的壓電響應(yīng)和“蝴蝶”型滯回曲線，證明了其具備穩(wěn)健的鐵電特性。此外，通過(guò)第二諧波產(chǎn)生（SHG）光譜技術(shù)進(jìn)一步確認(rèn)了空間對(duì)稱性的破壞。相比于原始薄膜，MBI摻雜的薄膜在極化-電場(chǎng)（P-E）回路測(cè)試中展示了高達(dá)23.2 μC/cm²的剩余極化強(qiáng)度（Pr），這是所有MBI摻雜濃度中的最高值，表明其具有出色的鐵電性能。

圖 Sn基鈣鈦礦薄膜的PFM、SHG及其鐵電性能

為了深入理解鐵電性產(chǎn)生的物理 機(jī)制，研究團(tuán)隊(duì)進(jìn)行了密度泛函理論（DFT）計(jì)算，并結(jié)合X射線光電子能譜（XPS）分析，揭示了MBI分子引入后，PEA分子與MBI之間形成的N-H…N氫鍵如何扭曲和旋轉(zhuǎn)PEA分子，最終導(dǎo)致正負(fù)電荷中心的錯(cuò)位。這種錯(cuò)位不僅打破了中心反演對(duì)稱性，還引起了能量帶的分裂，即Rashba效應(yīng)，從而進(jìn)一步強(qiáng)化了鐵電性。

基于上述研究成果，團(tuán)隊(duì)制備了基于Sn基鐵電鈣鈦礦半導(dǎo)體的場(chǎng)效應(yīng)晶體管（FeFETs）。這些晶體管表現(xiàn)出顯著的鐵電滯后現(xiàn)象，亞閾值擺幅（SS）低至67 mV/dec，遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)器件，并接近理論擴(kuò)散極限。此外，晶體管的記憶窗口從0.02 V增加到0.85 V，顯示了增強(qiáng)的記憶能力。在實(shí)際應(yīng)用測(cè)試中，F(xiàn)eFETs能夠在施加寫(xiě)入電壓后保持極化狀態(tài)超過(guò)1000秒，驗(yàn)證了其非易失性記憶體的應(yīng)用潛力。綜上，該研究不僅提供了一種有效的策略來(lái)實(shí)現(xiàn)Sn基鈣鈦礦半導(dǎo)體薄膜的鐵電性，而且通過(guò)系統(tǒng)性的實(shí)驗(yàn)和理論分析，揭示了鐵電性產(chǎn)生的微觀機(jī)制，為開(kāi)發(fā)新型低功耗電子器件和非易失性記憶體奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。這項(xiàng)工作對(duì)于推動(dòng)鐵電半導(dǎo)體材料的研究及其在高性能電子器件中的應(yīng)用具有重要意義。

下圖為澤攸科技JS系列臺(tái)階儀：