場發射掃描電子顯微鏡利用場發射電子源產生高能電子束，并通過透鏡系統將電子聚焦到樣品表面上。當電子束撞擊樣品時，會產生反射、散射和二次電子等信號，這些信號被收集并轉換成圖像，從而實現對樣品表面微觀結構的觀察和分析。
 

　　場發射掃描電子顯微鏡的工作原理如下：
 

　　1、制備樣品：首先需要將待觀察的樣品制成薄片或薄膜，并對其進行適當的處理，如清潔、鍍金等。
 

　　2、加載樣品：將處理好的樣品放置在樣品臺上，通常使用導電膠固定。
 

　　3、聚焦電子束：通過控制電子槍中的電壓和電流，產生一束高能電子束。這些電子在磁場的作用下被聚焦到非常小的尺寸(通常為納米級),形成尖銳的探針。
 

　　4、掃描樣品：通過改變電子束的方向和位置，使其沿著一定的路徑掃描樣品表面。當電子束與樣品相互作用時，會產生二次電子、背散射電子等信號。這些信號經過放大后被送入計算機進行處理。
 

　　5、成像分析：計算機根據接收到的信號生成圖像，并通過軟件對圖像進行分析和處理。例如，可以對圖像進行對比度調整、亮度調節、去噪等操作，以獲得更清晰的圖像。此外，還可以對圖像進行測量、計算等操作，以獲取更多有關樣品的信息。
 

　　總之，場發射掃描電子顯微鏡的工作原理是通過高能電子束掃描樣品表面，產生二次電子、背散射電子等信號，然后通過計算機對這些信號進行處理和分析，最終生成高質量的圖像。還具有分辨率高、放大倍數大、景深長等優點，廣泛應用于材料科學、生物學、地質學等領域的研究和教學中。