聯系電話
- 聯系人:
- 吳小姐
- 電話:
- 192-7009-5986
- 手機:
- 19270095986
- 售后:
- 19270095986
- 傳真:
- 86-0755-26703456
- 地址:
- 龍華街道龍華大道906號電商集團7層
- 個性化:
- www.tamasakisci.cn
掃一掃訪問手機商鋪
-
不同規格的梳子在電泳實驗中的優缺點主要取決于其孔數、齒寬、齒深等因素,以下是一些常見的情況分析:按孔數區分多梳齒(孔數多)梳子優點:可以同時分離多個樣品,提高實驗效率,適合大規模的樣品分析,如在基因組學研究中對大量基因樣本進行電泳分析,或在蛋白質組學研究中同時檢測多個蛋白質樣品。缺點:相鄰孔之間的距離相對較近,可能會導致樣品之間的相互干擾,比如在電泳過程中出現樣品擴散而相互重疊的現象,影響結果的準確性。而且,由于加樣量較多,對加樣技術的要求更高,若加樣不準確,容易出現上樣量不一致的情況。少梳齒(
-
在進行1200個樣品的實驗或檢測等操作時,要追溯每個孔對應的樣品,通常可以采用以下幾種方法:使用帶有編號的多孔板選擇合適的多孔板:使用具有編號或標記的多孔板,例如96孔板或384孔板。這些多孔板通常在板的邊緣或角落有清晰的行和列標識,如A、B、C等行標識和1、2、3等列標識,通過行和列的組合可以確定每個孔的位置。記錄樣品信息:在實驗開始前,制定一個詳細的樣品分配表,將每個樣品對應到多孔板的特定孔位。記錄樣品的名稱、編號以及對應的孔位信息,形成一個清晰的映射關系。數據關聯:如果實驗過程中涉及到數據
-
提高真空泵抽氣極限可從真空泵本身性能提升、系統設計優化以及輔助措施加強等方面著手,具體方法如下:選擇合適的真空泵類型根據需求選泵:不同類型的真空泵工作原理和性能特點各異。對于需要高真空度的半導體制造等場景,可選擇擴散泵、分子泵等。擴散泵能獲得高真空,且抽氣速度快;分子泵則具有清潔、無油污染、極限真空度高等優點。采用多級泵組合:將不同類型的真空泵組合使用,形成多級抽氣系統。例如,先使用旋片泵進行預抽,將系統壓力降低到一定程度后,再啟動分子泵或擴散泵等獲得更高的真空度。這樣可以充分發揮各種泵的優勢,
-
SIBATA柴田科學微型泵迷你泵MP-Σ30NⅡ性能介紹:MiniPumpMP-Σ(Sigma)系列是一款小型、輕量、便攜、高性能的空氣吸引泵(氣泵、氣動泵),內置累積流量測量功能。基本型有三種不同的流量范圍:0.5L/min、3L/min、5L/min。由于吸入流量穩定,可廣泛應用于作業環境、室內環境、大氣環境等有害物質的采樣。●配備流量傳感器,直接測量吸入流量,數字顯示瞬時流量和累計流量。搭載了恒流功能,可抑制因集塵等引起吸入壓力上升而引起的吸入流量的下降。●可采用4種模式(手動、下降定時器
-
玉科代理推薦SIBATA柴田科學微型泵迷你泵MP-Σ300NⅡ
SIBATA柴田科學微型泵迷你泵MP-Σ300NⅡ性能介紹:MiniPumpMP-Σ(Sigma)系列是一款小型、輕量、便攜、高性能的空氣吸引泵(氣泵、氣動泵),內置累積流量測量功能。基本型有三種不同的流量范圍:0.5L/min、3L/min、5L/min。由于吸入流量穩定,可廣泛應用于作業環境、室內環境、大氣環境等有害物質的采樣。●配備流量傳感器,直接測量吸入流量,數字顯示瞬時流量和累計流量。搭載了恒流功能,可抑制因集塵等引起吸入壓力上升而引起的吸入流量的下降。●可采用4種模式(手動、下降定時 -
迷你泵MP-Σ500NⅡ工作原理:MiniPumpMP-Σ(Sigma)系列是一款小型、輕量、便攜、高性能的空氣吸引泵(氣泵、氣動泵),內置累積流量測量功能。基本型有三種不同的流量范圍:0.5L/min、3L/min、5L/min。由于吸入流量穩定,可廣泛應用于作業環境、室內環境、大氣環境等有害物質的采樣。●配備流量傳感器,直接測量吸入流量,數字顯示瞬時流量和累計流量。搭載了恒流功能,可抑制因集塵等引起吸入壓力上升而引起的吸入流量的下降。●可采用4種模式(手動、下降定時器、容量定時器、循環定時器
-
watson深江化成移液器NT-S2/NT-S10NT-S100
watson深江化成移液器NT-S2/NT-S10/NT-S100/NT-S200Watson移液器NEXTY-S系列的單通道移液器,以下是其相關介紹:基本參數2量程:0.2-500μL。最小刻度:0.001μL。精度:±15.0%(0.2μL時),±2.5%(2μL時)。準確度:≤8.0%(0.2μL時),≤1.0%(2μL時)。產品特點2人體工程學設計:采用薄型按鈕設計,操作輕松,減少拇指疲勞,長時間使用也不會感到不適;配備三速渦輪刻度盤,1次旋轉相當于按鈕刻度盤的3.5次旋轉,單手即可輕松 -
抽氣極限是指真空泵所能達到的低壓力值,其高低對半導體制造工藝有著多方面的具體影響,以下是詳細介紹:對光刻工藝的影響提高分辨率:光刻工藝需要高的真空度來避免光線散射。抽氣極限高(即所能達到的真空度低)時,光刻系統中殘留氣體較多,光線在傳播過程中容易與氣體分子發生散射,導致光刻圖案的分辨率下降。而抽氣極限低(可達到高真空度)能減少光線散射,使光刻圖案更加清晰,有助于實現更小尺度的芯片制造。防止透鏡污染:在高真空環境下,透鏡等光學元件表面吸附的雜質氣體少,可避免雜質在高溫或高能輻射下揮發并沉積在透鏡表