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            ICP-5000測(cè)定硅材料中多種元素

            閱讀:1628      發(fā)布時(shí)間:2016-7-22
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            技術(shù)特點(diǎn)
            光譜干擾
            難電離元素分析

              硅材料具有優(yōu)異的電學(xué)性能和機(jī)械性能,是用量zui大、應(yīng)用zui廣的半導(dǎo)體材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是極有害的雜質(zhì),因此,電子工業(yè)中對(duì)硅材料的純度要求*。
              由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此類樣品通常需要加入HF,溫度過高易造成B的損失,另外硅材料中雜質(zhì)含量通常很低,要求分析儀器具有較高的靈敏度,尤其要求B、P等難電離元素具有高靈敏度。因此,選擇合適的消解方法和高靈敏的檢測(cè)儀器對(duì)此類樣品的分析至關(guān)重要;
            本文采用氫氟酸等混合酸低溫濕法消解硅材料樣品,隨后使用ICP-5000對(duì)該樣品中Al、B、Ca、Fe、Ni、Mn、P、Ti 8種有害雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定, 并考察了儀器檢出限和方法的精密度。
            樣品前處理
              準(zhǔn)確稱取0.5g(至0.0001g)粉末樣品于聚四氟乙烯燒杯中,加入特定的混合酸置于電熱板上以一定的溫度反應(yīng)至溶液澄清透明,隨后加入高氯酸低溫趕酸至剩余酸量約1-2mL,重復(fù)趕酸2次,冷卻后轉(zhuǎn)移至容量瓶,加水至50g,待測(cè)。
            儀器配置
            儀器:ICP-5000等離子體原子發(fā)射光譜儀;
            儀器參數(shù)見表1。

            表1 ICP-5000的儀器條件

            參   數(shù)

            設(shè)  置

            RF功率

            1150 w

            等離子觀測(cè)

            水平

            冷卻氣

            12 L/min

            輔助氣

            1.00 L/min

            霧化氣

            0.60 L/min

            進(jìn)樣泵速

            50 rpm

            沖洗泵速

            100 rpm

            分析時(shí)間

            長(zhǎng)波10 s,短波15s智能積分

            標(biāo)準(zhǔn)溶液配置
              將濃度為1000μg/mL的單元素標(biāo)準(zhǔn)溶液稀釋至如表2所示混合標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度梯度。線性相關(guān)系數(shù)均大于0.999。

            表2各元素的標(biāo)準(zhǔn)溶度配制梯度 

            溶液

            編號(hào)

            元素名稱

            標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度(μg/mL)

            1

            Al、B、Ca、Fe、Ni、Mn、P、Ti

            0\0.2\0.5\1.0\2.0

            檢出限
              按樣品空白連續(xù)11次測(cè)定的3倍SD計(jì)算元素的檢出限(LOD),結(jié)果列于表3

            表3 元素的檢出限

            元素波長(zhǎng)(nm)

            LOD(μg/L)

            Al 396.1

            0.81

            B 208.9

            3.29

            Ca 393.3

            0.05

            Fe 238.2

            1.14

            Ni 231.6

            1.38

            Mn 257.6

            0.07

            P 213.6

            15.30

            Ti 323.4

            0.81

            測(cè)量結(jié)果與方法精密度
              采用ICP-5000測(cè)定雜質(zhì)含量不同的2種硅材料樣品,每個(gè)樣品取2個(gè)平行樣,測(cè)量結(jié)果及精密度見表4。

            表4測(cè)量結(jié)果與精密度

            元素

            樣品編號(hào)

            兩個(gè)平行樣測(cè)定值(%)

            平均值(%)

            相對(duì)相差 (%)

            1

            2

            Al

            0.0725

            0.0735

            0.0730

            1.37

            0.1792

            0.1792

            0.1792

            0.00

            B

            0.0018

            0.0019

            0.0019

            5.26

            0.0152

            0.0147

            0.0149

            3.36

            Ca

            0.0705

            0.0688

            0.0696

            2.44

            0.0383

            0.0369

            0.0376

            3.72

            Fe

            0.3925

            0.4058

            0.3991

            3.26

            0.2127

            0.2109

            0.2118

            0.94

            Ni

            0.0121

            0.0119

            0.0120

            1.67

            0.0067

            0.0069

            0.0068

            2.94

            Mn

            0.0123

            0.0122

            0.0123

            0.81

            0.0089

            0.0092

            0.0091

            3.30

            P

            0.0038

            0.0037

            0.0037

            2.70

            0.0017

            0.0018

            0.0017

            5.88

            Ti

            0.0264

            0.0260

            0.0262

            1.53

            0.0135

            0.0137

            0.0136

            1.47

            結(jié)論
              本文采用ICP-5000測(cè)定硅材料中Al、B、Ca、Fe、P、Ni、Mn、Ti 8種元素含量,通過對(duì)雜質(zhì)含量不同的2種硅材料樣品的測(cè)量,并計(jì)算檢出限和方法精密度,考察ICP-5000在硅材料樣品中的實(shí)際分析性能。結(jié)果表明:每種樣品平行2次消解并測(cè)量的相對(duì)相差均小于6%,ICP-5000可用于硅材料樣品中難電離元素B、P及金屬元素的分析檢測(cè)。 

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