超純水（UPW）被廣泛地用于半導體器件生產中所有濕法工藝步驟，包括晶片沖洗和化學浴中化合物的稀釋。在這些關鍵步驟中，可能會吸收來自化學浴和沖洗水中的污染物，然后通過一系列的化學和電化學反應沉淀到硅表面。在成品的重點區域中，如果金屬污染物的濃度達到50 ppq，就會改變集成電路部件的電氣參數，導致其無法通過后的電氣測試。因此超純水純度測定至關重要。

在此，我們將展示出珀金埃爾默新的化學高分辨多重四極桿ICP-MS儀器NexION 5000獲得的超純水分析結果。NexION 5000 四組四極桿組成的多重四極桿ICP-MS質譜平臺，通過各四極桿的不同質量分辨能力和工作模式，結合碰撞反應池技術，實現化學高分辨，獲得干擾消除。