雙光子無掩膜光刻的原理介紹

來源：納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe 2023年08月11日 13:28

　　一、受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。從納米到介觀尺度原型制作：同類中先的3D打印系統。可打印任何形狀，已被工業界認可的QuantumX平臺的二代加工系統。

　　二、原理作用過程：

　　(1)通過系統集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置，實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產。

　　(2)不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。

　　三、特點與優勢：

　　1.自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

　　2.可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

　　3.工業化批量生產：200個標準介觀尺度結構通宵產量

　　4.保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

　　5.快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工作流程

　　6.工業驗證的晶圓級批量生產

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