托托科技 無掩模光刻機

托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和效率。無論是在科學研究、定制化生產、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

激光直寫光刻技術與DMD無掩模光刻技術

激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而DMD無掩模技術通過數字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，適用于大面積光刻。

DMD無掩模光刻技術路線介紹

基本原理：DMD技術利用數字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，從而通過投影系統在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 。這些微鏡根據電信號的控制會精確調節反射角度，將激光或光源投射到特定位置。

系統組成：基于DMD的無掩模光刻系統通常由光源模組、勻光模組、DMD模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構成，這些模組高效、精準的協同工作，實現了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。

工作流程：上位機的發送圖形數據到DMD模組，DMD顯示對應的圖形，經由DMD反射的光攜帶著圖形信息，并經過一系列光學元件后照射到基片上，實現了圖形的轉移。高精度運動平臺的協同工作，確保不同曝光區域的精準拼接, 最終實現大型、復雜圖案的動態曝光。

核心功能

靈活設計無需掩模版

與傳統的有掩模光刻相比，無掩模光刻機更加靈活便捷，省去了制版的時間和金錢成本，幫助您快速驗證想法

加工精度可達400 nm

加工精度1 μm可以滿足大多數加工需求，針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達400 nm的產品供您選擇

速度高達1200 mm²/min

對于大尺寸樣品的加工來說，效率變得尤為重要，我們將為您供高速高精度的設備來滿足您的需求

加工幅面可達2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達2 m² 的產品來滿足您的需求

灰度光刻可達4096階

4096階的灰度能力，能夠精準地在光刻材料上構建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結構或圖案，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性

特色功能

直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來快速驗證您的想法

精準套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對準預覽，以此來實現精準套刻

陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認工藝參數的手段，以此來幫您節約時間

主動對焦：主動對焦為您提供光刻前的實時對準，以此來確保每次光刻聚焦清晰

應用方向：二維材料

托托科技自主研發的“指引光”和“直接繪圖”功能在感興趣的二維材料上直接繪制電極圖案，靈活高效。

應用方向：微流控

無掩模光刻機可用于制作高深寬比（10:1）結構，在微流控芯片的制造中具有高精度、高靈活性，廣泛應用于單細胞分析、傳感器等領域。

應用方向：MEMS

無掩模光刻技術在MEMS領域應用廣泛，可高精度制造微米級圖案，通過多層套刻的方式進行復雜結構的加工。

應用方向：微透鏡

通過灰度光刻的方式可以精確控制表面形貌從而生成復雜的衍射結構，如光柵、菲涅爾透鏡、微透鏡等。

應用方向：光學衍射器件

灰度光刻在光學調制器件中的應用通過精確控制光刻強度，制造出高度精細的光學微結構，用于實現光波的調制與傳輸特性優化。

應用方向：浮雕結構

灰度光刻在防偽浮雕結構中的應用通過精細調控光照強度，實現高精度的三維微結構，增強防偽標識的復雜性和難以復制性。

應用方向：超表面

光刻工藝在超表面方向的應用通過精確加工微納米級結構，實現對光波的精細操控和特定波長、極化等光學性質的調制。

應用方向：量子光學

光刻工藝在量子光學光波導方向的應用通過精密刻蝕微納尺度的光波導結構，實現對量子態的傳輸和操控，促進量子信息處理與傳輸技術的發展。

應用方向：掩模版制造

高速（可達1200 mm²/min）的無掩模光刻機適用于小批量、定制化掩模版制備，減少對外部依賴，縮短設計迭代周期。

科研版-Academic 無掩模光刻機

高靈活性、高精度、無掩模的優勢，適用于科學研究

●6 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達0 . 4  μm

● 步進式光刻/掃描式光刻

高速版-Speed 無掩模光刻機

更快的加工速度、更強的設備性能，適用于小批量生產制造

●8 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達0.5 μm

●掃描式光刻

教育版-Young 無掩模光刻機

桌面型無掩模光刻機，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實驗課程

●2英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達1 . 5 μm

*以上所有產品的規格參數取決于個別工藝條件，并可能根據設備配置而有所不同，寫入速度取決于曝光面積。

更多解決方案

● 材料器件制備一站式解決方案

如果您的研究涉及厭水、厭氧性質的材料（如磁性氧化物、Micro-LED、OLED等）又需要進行光刻相關的實驗，我們可以為您提供手套箱版本的光刻機解決方案。

● 特殊襯底光刻

光刻不僅適用于常規硅基襯底，還可以在各種特殊襯底上進行，例如鉆石、光纖、甚至小的發動機葉片（曲面）等，為各個應用領域提供解決方案。

● 超大幅面光刻

除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，我們還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業需求。

托托科技是一家快速成長的技術驅動型企業，專注于精密光學儀器的研發制造。公司目前擁有無掩模版光刻設備、磁學產品、多模態光電顯微鏡、超高精度3D光刻產品、3D顯微鏡五個核心產品線，已經形成了集設計、研發、制造、銷售及客戶咨詢服務為一體的高科技企業，致力于給客戶提供技術支持，以技術和細致設計造就品質，以耐心服務和企業擔當贏得良好口碑。