Gentle Mill 離子精修儀- TEM 樣品精修
- 公司名稱 復納科學儀器（上海）有限公司
- 品牌 Technoorg Linda
- 型號 Gentle Mill
- 產(chǎn)地 匈牙利
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2023/11/15 18:06:28
- 訪問次數(shù) 2006
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 80萬-100萬 |
|---|---|---|---|
| 濺射氣體 | 氬氣,氮氣 | 控制方式 | 電腦控制 |
| 應用領域 | 能源,電子/電池,航空航天,制藥/生物制藥,綜合 |
Gentle Mill 離子精修儀--用于制備高質(zhì)量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站
Technoorg Gentle Mill 離子精修儀產(chǎn)品專為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設計。 Gentle Mill 型號非常適合要求樣品無加工痕跡、表面幾乎沒有任何損壞的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶。 同時，Gentle Mill 還適用于快速減薄凹坑或超薄平面 (< 25 μm) 以及機械拋光樣品。
產(chǎn)品特色：
快速、可靠地精修和處理 TEM 和 FIB 樣品
帶有預編程的設置，可進行自動化操作
可應用于工業(yè)環(huán)境中
直接匹配日立 FIB-STEM/TEM 系統(tǒng) 3D 樣品臺
性能參數(shù)
低能離子槍（固定型）
離子能量：100 - 2000 eV，連續(xù)可調(diào)
離子電流密度：最大 10 mA/cm2
離子束流：7 - 80 μA，連續(xù)可調(diào)
離子束直徑：750 - 1200 μm (FWHM)電控優(yōu)化的工作氣流
在 2000 eV 離子能量和 30° 入射角下，c-Si 的研磨速率為 28 μm/h
樣品臺
切削角度：0° - 40°，每 0.1° 連續(xù)可調(diào)
可進行計算機控制的平面內(nèi)樣品旋轉(zhuǎn)和擺動（從 ±10° 到±120°，每 10° 連續(xù)可調(diào)）
可適用的 TEM 樣品的厚度范圍 (30 -200 μm)
樣品處理
用于快速樣品交換的真空鎖系統(tǒng)
全機械、無膠裝載
專為 XTEM 樣品設計的鈦夾和封裝技術
真空系統(tǒng)
Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無油隔膜和渦輪分子泵，配備緊湊的全范圍 Pirani/Penning 真空計
供氣系統(tǒng)
99.999% 純氬氣，絕對壓力為 1.3 - 1.7 bar
帶有電子出口壓力監(jiān)測功能的惰性氣體專用壓力調(diào)節(jié)器
工作氣體流量高精準控制
成像系統(tǒng)
用于全視覺控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機圖像
高分辨率彩色 CMOS 相機
50 - 400 倍放大范圍的手動變焦視頻鏡頭
電腦控制
內(nèi)置工業(yè)級計算機
簡單便捷的圖形界面和圖像分析模塊
通過鼠標點擊或拖動輕松控制所有重要參數(shù)
高度自動化的操作機制，最大限度地減少人工干預
電源要求
100 - 120 V/3.0 A/60 Hz 或 220 - 240 V/1.5 A/50 Hz ? 單相
應用案例
01. Gentle Mill 對在各種 FIB 制備的樣品進行低能量 Ar+ 氬離子研磨顯著降低了受損的非晶表面層的厚度。可以實現(xiàn)對 65 nm 節(jié)點半導體器件進行原子級結構分析。
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