Satur系列 多片式MOCVD系統

1. 產品概述

Satur系列 多片式MOCVD系統，優異的均勻性、一致性、穩定性控制，MOCVD 即金屬有機物化學氣相沉積，是一種用于生長化合物半導體薄膜的技術。它通過將Ⅲ族元素的有機化合物和氨氣或氧氣等作為晶體生長源材料，以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延，生長各種化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。

2. 設備用途/原理

Satur系列 多片式MOCVD系統，優異的均勻性、一致性、穩定性控制，盒對盒全自動傳輸系統，優良的實時監控系統，友好界面與配方編輯功能，滿足 SEMI S2 安全標準。

3. 設備特點

晶圓尺寸 4、6、8 英寸，沉積材料 氮化鎵、砷化鎵、磷化銦。適用材料 硅、碳化硅、氧化鋁、砷化鎵、磷化銦。適用領域 科研、集成電路、化合物半導體。