PlasmaPro 800 PECVD 等離子增強化學氣相沉積PECVD

1. 產品概述

PlasmaPro 800是一款先進的等離子增強化學氣相沉積（PECVD）設備，專為大批量晶圓和300mm晶圓的生產需求而設計，提供了靈活且高效的處理解決方案。它引入了緊湊的開放式裝載系統，使得操作更加便捷，同時提升了生產效率，適應各種制造環境。

該設備配備了460mm直徑的工作臺，具備處理整片300mm晶圓的能力，同時能夠高效處理大批量的43 x 50mm（2”）小晶圓，通過這一設計，PlasmaPro 800能夠滿足不同尺寸晶圓的生產需求，為用戶提供全面的量產解決方案。這種高適應性的特點讓用戶能夠靈活應對不斷變化的市場需求，特別是在大規模生產環境中表現尤為突出。

此外，PlasmaPro 800以其出色的性能和可靠性贏得了市場的廣泛認可。它支持多種材料的沉積工藝，能夠應用于諸如光電設備、微電子器件、MEMS等多個領域，為客戶的創新研發和產品制造提供強大動力。

綜合來看，PlasmaPro 800不僅在技術上實現了突破，還通過其靈活的配置和高效的操作方式，將大批量晶圓的生產推向新的高度，為半導體產業的可持續發展提供了堅實的基礎。

2. 特色參數

高性能工藝

準確的襯底溫度控制

準確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

3. 為化合物半導體、光電子和光子學應用提供了更為靈活的工藝，PlasmaPro 800 可提供：

大型電 - 低成本

刻蝕終點監測 - 可靠性和可維護性俱佳

通過激光干涉儀與/或發射光譜進行終點監測 - 增強刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機分離，放置在遠端服務區

近距離耦合渦輪泵 - 提供優秀的泵送速度加快氣體的流動速度

數據記錄 - 追溯腔室的歷史狀態以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩定性