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上海添時科學儀器有限公司

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制膜設備: 鈣鈦礦鍍膜機蒸發鍍膜磁控濺射鍍膜等離子濺射鍍膜超聲霧化噴霧熱解靜電紡絲旋轉涂膜勻膠機刮膜機提拉涂膜機

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全部熱門新品品牌

磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-CKJS-450-B1
磁控濺射儀可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
型號： GSL-CKJS-... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

離子濺射高真空濺射

2025/6/10 21:41:115197
磁控濺射參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-CKJS-560-B2
高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
型號： GSL-CKJS-... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:39:193459
磁控濺射卷繞鍍膜機參考價：面議

參考價：面議型號：
磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術，配備直流、射頻磁控...
型號：品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:36:593398
磁控濺射鍍膜儀參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1100X-SPC-16M
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物...
型號： GSL-1100X... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:34:464366
薄膜電池制備系統參考價：面議

參考價：面議型號：VGB-600-3HD
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統可在手套箱內進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
型號： VGB-600-3... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:32:313044
雙靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-2HD-1000
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
型號： VTC-600-2... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:30:575521
單靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-1HD
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
型號： VTC-600-1... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:29:253368
三靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-3HD
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化...
型號： VTC-600-3... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:27:393013
雙靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-2HD
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
型號： VTC-600-2... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2025/6/10 21:25:413228