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納米粒徑與電位分析儀的工作原理分析
NICOMP 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀采用的設計理念優化結構設計，充分有效地融合了動態光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術，即可以多角度（步長0.9°）檢測分析液態納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測量Zeta電位。粒度測試范圍：0.3nm–10μm。
電泳光散射法（ELS）與粒子的動電（Zeta）電位：
電泳光散射法（ELS）與粒子的動電（Zeta）電位：
ELS 是將電泳和光散射結合起來的一種新型光散射。它的光散射理論基礎是 準彈性碰撞理論，只是在實驗時在式樣槽中多加一個外電場，帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應的動力光散射光譜產生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此實驗測得譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位。
Nicomp 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀通過檢測分析膠體顆粒的電泳遷移率測量Zeta電位。Zeta電位是對顆粒之間相互排斥或吸引力的強度的度量，是表征膠體分散系穩定性的重要指標，Zeta電位（正或負）越高，體系越穩定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過粒子之間的靜電排斥力來保持穩定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發生聚集，膠體也會越穩定。Nicomp 380 ZLS&S結合了動態光散射技術（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現了同機測試納米粒子分布和Zeta電勢電位。