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DLS技術在納米粒徑分析儀中的應用
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。
DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數關系。粒子的擴散現象（或布朗運動）導致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關函數是一個指數衰減函數，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。
DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數關系。粒子的擴散現象（或布朗運動）導致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關函數是一個指數衰減函數，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。
大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現多分散體系狀態，即測出來的粒徑正態分布范圍會比較大，直觀的呈現是粒徑分布峰比較寬。自相關函數是由多組指數衰減函數綜合組成，每一個指數衰減函數都會因指數衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關函數就變得不再簡單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉化原始數據，從而得出接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復雜的樣品體系，利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達方法-Nicomp分布（Nicomp Distribution）。