頻繁且經濟有效的光譜表征對于開發具有競爭力的光學薄膜涂層非常 重要。*自動化且無人值守的光譜測量有助于降低每次分析的成 本、提高分析效率，還有助于擴展質保程序。在生產過程中，滿負荷 運轉的沉積室中常會涂覆大面積、通常呈圓形的襯底晶片。的光 學表征工具必須能夠在晶片被切割之前從用戶的晶片表面的特征 點獲得準確且有意義的信息。

專為 Cary 7000 型安捷倫分光光度計 (UMS) 和型 測量附件包 (UMA) 設計的安捷倫固體自動進樣器可 容納直徑達 200 mm (8") 的樣品，并提供 UV-Vis 和 NIR 光譜范圍內的角度反射率和透射率數據。

此前的研究已經證明，將 Cary 7000 UMS 與自動 進樣器相結合，能夠對 32x 樣品支架上的多個樣品 進行自動化、無人值守的分析 [1]，并對氧化鋅錫 (ZTO) 涂層的線性能帶隙梯度進行空間測繪 [2]。本 研究使用配備自動進樣器的 Cary 7000 UMS 對直 徑 200 mm 晶片上的涂層均勻性進行了自動化的角 度分辨測繪。

Cary 7000 UMS UV-Vis/NIR 分光光度計（圖 1）專 為 250 nm 至 2500 nm 波長范圍內的多角度光度 光譜 (MPS) 測量而設計。在 MPS 應用中，我們需 要測量樣品在較寬入射角范圍內（從接近垂直到 傾斜入射角）的反射率和/或透射率 [3]。近 有研究證明，MPS 數據對于復雜薄膜的逆向工程 [4]、深入了解電介質薄膜中總損耗的振蕩 [5]，以 及改進涂層生產步驟中應用的逆向工程策略 [6] 很 有幫助。