高基體樣品中多種痕量元素的測(cè)定一直是一個(gè)困難的 分析挑戰(zhàn)。ICP 光學(xué)發(fā)射光譜（OES）具有優(yōu)良的基 體承受能力和多元素同時(shí)分析能力，但靈敏度不足， 而且易受到復(fù)雜的光譜干擾。ICP-MS 具有難以逾越 的靈敏度和較少的干擾，但對(duì)可溶固體含量必須限制 到大約 0.1% 或更低。

我們將 安捷倫ICP-MS（以及 ICP-OES）的穩(wěn)定性和其它性 能對(duì)于高溶解固體的耐受能力定義為“耐用性”。在 ICP-MS 中，這種耐用性是通過測(cè)量調(diào)諧的 CeO+/Ce+ 比值來評(píng)價(jià)的，CeO+ /Ce+ 比值越低意味著該等離子體 越耐用。

安捷倫先研發(fā)了許多新技術(shù)以改善其耐用性，包括 一種優(yōu)化的低流速樣品引入系統(tǒng)，該系統(tǒng)的炬管內(nèi) 徑較寬（2.5 mm），采用數(shù)字驅(qū)動(dòng)的 27 MHz 射頻發(fā)生器。這些創(chuàng)新技術(shù)使 Agilent 7500 八極桿反應(yīng)池系 統(tǒng)（ORS）比其他任何 ICP-MS 都具有更好的高基體 樣品分析性能，CeO+/Ce+ 比值大約 1%，而其他儀器 一般是 2%-3%。不過，即使擁有這些創(chuàng)新技術(shù)，但為 了獲得穩(wěn)定性，仍需限制總?cè)芙夤腆w（TDS）。 一般來講，這意味著樣品的稀釋會(huì)隨之帶來一些缺點(diǎn)， 包括檢出限變差，樣品污染的可能性增加，制備時(shí)間 增加以及廢液體積增加等。