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            冷熱沖擊設備在芯片失效分析領域中的應用

            時間:2023/11/14閱讀:613
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            去除表面鈍化層、金屬化層和層間介質后有時依然無法觀察到失效點,這時候就需要對芯片進行進一步處理,對于多層布線的芯片干法腐蝕或者濕法腐蝕來逐一去除,直至最后一層金屬化和介質層。去玩所有的金屬化層和介質層后,有時候還需要去除多晶硅層、氧化層等直至露出硅本體。


            由于層間介質的材料與鈍化層材料種類基本相同,因此層間介質的去除也是類似的,也是主要分為干法腐蝕和濕法腐蝕兩種。以高低溫沖擊設備為例,其能夠提供特性分析、高低溫溫變測試、溫度沖擊測試、失效分析等可靠性試驗。


            1、高低溫沖擊機輸出氣流罩將被測試品罩住,形成一個較密閉空間的測試腔,試驗機輸出的高溫或低溫氣流,使被測試品表面溫度發生劇烈變化,從而完成相應的高低溫沖擊試驗;


            2、可針對眾多元器件中的某一單個IC或其它元件,將其隔離出來單獨進行高低溫沖擊,而不影響周邊其它器件,與傳統冷熱沖擊試驗箱相比,溫變變化沖擊速率更快。



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