Otsuka大塚液晶層間隙量測設(shè)備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學(xué)系和多通道分光檢出器 有可對應(yīng)各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學(xué)素子到第10代的大型基板 安全...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設(shè)備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學(xué)系和多通道分光檢出器 有可對應(yīng)各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學(xué)素子到第10代的大型基板 安...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀易使用即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀 體積小即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀高度檢測即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀安裝簡易即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光學(xué)...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀省空間即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破...

HITACHI日立紫外分光光度計易操作UH5200不僅配有高分辨率彩色LCD大屏和便捷小鍵盤，還可以通過USB接口輕松連接外部設(shè)備（讀卡器、鍵盤），實現(xiàn)樣品信息...

HITACHI日立分光光度計易操作U-3900/3900H分光光度計采用Seya-Namioka單色儀，安裝了像差校正凹面光柵。同時擁有光束的聚焦和色散功能，光...

HITACHI日立紫外分光光度計易使用UH5700采用連續(xù)可變狹縫，在近紅外波長區(qū)測定低光量時，自動加寬狹縫；測定高光量時，自動減小狹縫寬度。支持低噪音測定超大...

HITACHI日立雙光束穩(wěn)定光學(xué)光度計易使用U-3900/3900H分光光度計采用Seya-Namioka單色儀，安裝了像差校正凹面光柵。同時擁有光束的聚焦和色...

HITACHI日立熒光分光光度計易維護(hù)F-2700熒光分光光度計在設(shè)計上充分考慮了用戶的操作體驗。操作鍵盤設(shè)計簡潔直觀，類似于手機(jī)按鍵，用戶無需專業(yè)培訓(xùn)即可快速...

HITACHI日立熒光分光光度計靈敏度高F-7100是在前代機(jī)型F-7000的基礎(chǔ)上更新升級，基本性能得到了進(jìn)一步提升。靈敏度（S/N）是選擇熒光分光光度計的重...

HITACHI日立分光光度計易操作采用優(yōu)良的技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的材料制造而成，F(xiàn)-2700在長時間運行過程中能夠保持穩(wěn)定的性能表現(xiàn)，減少了因儀器故障而導(dǎo)致的實驗中斷。

HITACHI日立分光光度計易使用F-7000能夠處理濃度范圍高達(dá)6個數(shù)量級的數(shù)據(jù)，生成校正曲線，無需對未知樣品進(jìn)行任何預(yù)處理即可進(jìn)行定量。此外，增強(qiáng)的時間掃描...

HITACHI日立熒光分光光度計易使用F-7100采用全新氙燈，并改良了燈電源，使得光源亮度提升，并有效延長了氙燈的使用壽命。延長燈泡更換周期可降低耗材成本，減...

Otsuka大塚 多通道光譜儀配件豐富MCPD-6800是用于分光檢測與分析的基本系統(tǒng)。可以瞬間進(jìn)行分光光譜的測量,也可以通過自由組合的光學(xué)系和豐富的配件，搭建...

HITACHI日立熒光分光光度計高精度傳統(tǒng)熒光光譜儀很難實現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)監(jiān)控，但F-7100超高速的掃描速度可使這種測量輕松進(jìn)行。在本例中，熒光光譜測量追蹤2秒時間...