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Otsuka大塚 液晶層間隙量測(cè)設(shè)備易使用產(chǎn)品信息 特 點(diǎn) 采用了偏光光學(xué)系和多通道分光檢出器 有可對(duì)應(yīng)各種尺寸的裝置,從1mm大小的光學(xué)素子到第10代的大型基...
Otsuka大塚彩色濾光片測(cè)量裝置 精度高產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有...
Otsuka大塚彩色濾光片測(cè)量裝置 測(cè)量精度高產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的...
Otsuka大塚彩色濾光片測(cè)量裝置產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...
Otsuka大塚彩色濾光片測(cè)量裝置 產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...
Otsuka大塚彩色光刻膠測(cè)量裝置 測(cè)量精度高產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的...
Otsuka大塚彩色光刻膠測(cè)量裝置精度高產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢...
Otsuka大塚彩色光刻膠測(cè)量裝置高精度產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢...
Otsuka大塚彩色光刻膠測(cè)量裝置產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...
Otsuka大塚彩色光刻膠測(cè)量裝置 產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 以透過光譜測(cè)量、色測(cè)量為代表,通過濃度測(cè)量、膜厚測(cè)量、反射光譜測(cè)量等,可對(duì)應(yīng)彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...
Otsuka大塚 ZETA電位·粒徑·分子量測(cè)試系統(tǒng)ELSZ series的高級(jí)機(jī)型,除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進(jìn)行zeta電位(Zeta ...
Otsuka大塚ZETA電位·粒徑·分子量測(cè)試系統(tǒng)ELSZ series的高級(jí)機(jī)型,除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進(jìn)行zeta電位(Zeta P...
Otsuka大塚液晶層間隙量測(cè)設(shè)備產(chǎn)品信息 特 點(diǎn) 采用了偏光光學(xué)系和多通道分光檢出器 有可對(duì)應(yīng)各種尺寸的裝置,從1mm大小的光學(xué)素子到第10代的大型基板 安全...
Otsuka大塚 液晶層間隙量測(cè)設(shè)備產(chǎn)品信息 特 點(diǎn) 采用了偏光光學(xué)系和多通道分光檢出器 有可對(duì)應(yīng)各種尺寸的裝置,從1mm大小的光學(xué)素子到第10代的大型基板 安...
Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀易使用即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞...
Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀 體積小即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...
Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光...
Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀高度檢測(cè)即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...
Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀安裝簡易即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...
Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光學(xué)...
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