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基本原理
當使用離子束拋光表面時，要充分考慮所使用的拋光參數對樣品中每個組分的拋光效果，從而實現層界面和晶粒結構清晰可見。相比于離子拋光厚度，較大的角度可用于選擇性地拋光，從而提高成像襯度。例如，多晶材料中，不同取向的晶粒具有不同的拋光速率，因此經襯度增強后，晶粒結構清晰可見。同樣，也可以使用襯度增強方法來拋光橫截面。大多數情況下，在經歷研磨和機械拋光后，很難辨認樣品中的晶粒或層界面。因此，通常會對拋光后的樣品表面進行化學腐蝕。離子束拋光能很好地用于提高樣品表面的成像襯度。襯度增強通常作為表面修飾的最后一步。在進行襯度增強之前，使用離子拋光對樣品表面進行清理是非常重要的。
優點
* 比化學腐蝕更快，且操作過程非常干凈清潔
* 應用范圍廣泛，特別適合那些不能使用化學腐蝕的樣品表面
可能的應用
* 金屬、半導體、陶瓷，甚至一些有機材料，如骨頭；
* 一些特殊的應用領域，如一些不能使用化學腐蝕或只能有限使用化學腐蝕的材料或組合材料。
應用實例
● 微電子結構的截面拋光
● 半導體結構斷裂后，揭示顯露其中的單獨結構
● 對多層構件進行拋光，獲取層厚信息
● 對具有不同硬度的層組成的多層系統進行拋光，揭示顯露其界面結構
案例分享
多晶材料的襯度增強
01
目的
離子拋光能非常好地代替化學腐蝕，特別是對于多晶材料，如銅。離子拋光能用于增加晶粒結構和晶界的襯度。相比于化學腐蝕，離子拋光過程是干凈清潔，安全和易于操作的。所使用的離子束能量，取決于材料的拋光速率。
02
制備參數
加速電壓: 2kV
槍電流: 1.5mA
拋光角度: 48°
拋光時間: 3分鐘
03
結果
銅的拋光速率很高，因此，經歷3分鐘的短時間拋光后，其晶粒結構就清晰可見。
圖2 在使用離子拋光進行襯度增強后，銅表面的形貌
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